基于氮化硼闪烁屏的伽马射线抑制中子成像系统

    公开(公告)号:CN119936961A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202510113657.7

    申请日:2025-01-24

    Applicant: 中山大学

    Inventor: 郑伟 朱思琪

    Abstract: 本发明涉及中子成像技术领域,公开了基于氮化硼闪烁屏的伽马射线抑制中子成像系统及其应用,所述中子成像系统包括氮化硼闪烁屏、光路系统、以及相机,所述氮化硼闪烁屏位于光路系统前方,并安装在中子入射窗的位置,所述光路系统与相机连接,所述光路系统根据高通量中子束流源、低通量中子束流源以及远距离中子成像设置有不同的光路单元,所述相机用于接收所述光路系统处理后的闪烁光并记录光子信息。本发明的中子成像系统能够减少伽马射线引起的背景信号,从而提高了信噪比,使得到的图像更加清晰,减少了噪声和伪影,提高了图像的成像质量和检测准确性,在高能物理实验和工业检测领域具有重要的应用潜力。

    硼酸唑晶体和制备方法以及硼酸唑前驱体热解制备的氮化硼材料

    公开(公告)号:CN119824546A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202411942005.6

    申请日:2024-12-27

    Abstract: 本发明为硼酸唑晶体和制备方法以及硼酸唑前驱体热解制备的氮化硼材料。能制得单晶颗粒尺寸不小于1毫米及单晶团聚体的颗粒尺寸不小于1厘米的产品。两种晶体,分别命名为晶体ZB和晶体AB,化学式分别为[C4H11N10][B5O6(OH)4]和[C2H5N4][C2N4H4B5O6(OH)4],具有明确的化学特性:ZB的分子量为417.31,属单斜晶系,空间群Ia,晶胞参数为#imgabs0#Z=4;AB的分子量为387.27,属三斜晶系,空间群P‑1,晶胞参数为#imgabs1#Z=2。鉴于这些硼酸唑晶体在惰性气氛下可直接高温热解转化为六方氮化硼,加之其高溶解度、良好的熔化特性及溶液浓缩时的粘稠性,它们作为前驱体材料,适用于制备多种类型的六方氮化硼材料,高效且适用于规模化生产。

    六方氮化硼聚集颗粒和六方氮化硼粉末、树脂组合物、树脂片

    公开(公告)号:CN116419944B

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202280007133.4

    申请日:2022-03-01

    Abstract: [课题]提供六方氮化硼聚集颗粒和六方氮化硼粉末,可以对填充至树脂而得到的树脂组合物赋予极高的介电强度和导热系数、并且能减少密度。[解决方案]一种六方氮化硼聚集颗粒,其为六方氮化硼一次颗粒的聚集颗粒,所述六方氮化硼聚集颗粒的长径为5~10μm、长径/短径为1.0~1.3、圆形度处于0.3~0.8的范围、且根据倍率10000倍的SEM观察图像在聚集颗粒表面能确认到的一次颗粒的最大直径为4μm以下。一种六方氮化硼粉末,其包含六方氮化硼一次颗粒的聚集颗粒,由湿式激光衍射粒度分布法测得的粒度分布的累积体积频率50%的粒径(D50)为5~150μm,由压汞法测得的孔的体积基准中值粒径为3.0μm以下,杂质元素的含量为500ppm以下。

    改性三维氮化硼导热材料、尼龙复合材料及其制法与应用

    公开(公告)号:CN119639083A

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202411913366.8

    申请日:2024-12-24

    Inventor: 陈云雷 黄威 陈鹏

    Abstract: 本发明公开了一种改性三维氮化硼导热材料、尼龙复合材料及其制法与应用。所述改性三维氮化硼导热材料的制备方法包括:将聚苯乙烯乳液与聚二烯丙基二甲基氯化铵‑六方氮化硼溶液混合搅拌进行原位破乳,制得聚苯乙烯/聚二烯丙基二甲基氯化铵‑六方氮化硼复合溶液;将所述复合溶液与镀液混合作为电镀液,对作为阴极材料的金属基底进行电镀处理,之后经煅烧、刻蚀处理,制得三维氮化硼导热材料;以及,对所述三维氮化硼导热材料进行环氧修饰处理,制得改性三维氮化硼导热材料。本发明通过对六方氮化硼进行改性,进而与纳米级导热填料配合使用,使其负载于三维氮化硼导热填料之间,在填料之间构建导热网络,实现尼龙复合材料的高效导热。

    等离子体处理方法、等离子体处理六方氮化硼粉末的制造方法以及等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN116745253B

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202180089389.X

    申请日:2021-09-27

    Abstract: 提供一种在作为填料添加到树脂中时能够得到更高的热传导性的六方氮化硼粉末。一种等离子体处理方法,在减压下对六方氮化硼粉末进行等离子体处理,将上述六方氮化硼粉末收容于处理容器,向上述处理容器内供给等离子体生成用气体并且将上述处理容器内维持为低于大气压的压力,边使上述处理容器以上述处理容器的中心轴为旋转轴旋转、边对设置于上述处理容器的外部的电极施加高频,由此对上述处理容器内的六方氮化硼粉末进行等离子体处理,此时,上述处理容器的旋转轴相对于水平倾斜,在进行上述等离子体处理的期间,对上述处理容器及上述电极的一方或双方进行冷却。

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