一种双效除磷氮的硫基矿物质净水基材的制备方法

    公开(公告)号:CN119912011A

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202411360345.8

    申请日:2024-09-27

    Inventor: 温文 任小伟

    Abstract: 本发明公开了一种双效除磷氮的硫基矿物质净水基材的制备方法,包括硫基矿物质净水基材,包括除磷氮药剂组分和除磷氮功能矿物质胶凝林料组分,所述的除磷氮药剂包括:硫化亚铁、硫酸亚铁、碳酸钙、硅灰、无水硫代硫酸纳;所述的除磷氮功能矿物质胶凝林料包括:低碱硅酸盐水泥42.5、沸石、硅藻土、麦饭石、粉煤灰、过氧化氢。制备方法:除磷氮药剂组分预制备料,除磷氮功能矿物质胶凝林料组分预制备料,复合成品制备。本发明与现有技术相比的优点在于:具有长效除磷氮的效果,能够有效地解决水体富营养化、磷氮超标等问题。该净水基材具有制备工艺简单、成本低廉、性能稳定等优点,具有广阔的应用前景。

    一种高盐废水智能化处理装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119911995A

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202510267394.5

    申请日:2025-03-07

    Inventor: 高友帅 孙立民

    Abstract: 本发明公开了一种高盐废水智能化处理装置,涉及废水处理领域,包括药剂箱,所述药剂箱内部设置有分隔部,所述分隔部将所述药剂箱内部的空间分为存药腔以及称量腔,所述存药腔内部转动设置有称量板;所述称量板上设置有称重传感器以及预留机构,基于所述称重传感器的数值,将所述预留机构内部的药剂逐级添加至高盐废水中。本发明提供的一种高盐废水智能化处理装置,通过设置预留机构,在药剂下落至称量板上时,会有一部分药剂优先落入至预留机构内部,当读取称重传感器的数值之后,基于称重传感器的数值,仅将预留机构内部的部分药剂添加至废水中,以尽可能解决药剂偏多的问题。

    一种催化分解甲醇水溶液中过氧化氢的方法

    公开(公告)号:CN119911992A

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202311420510.X

    申请日:2023-10-30

    Abstract: 本发明涉及过氧化氢分解的领域,公开了一种催化分解甲醇水溶液中过氧化氢的方法。催化分解甲醇水溶液中过氧化氢的方法,方法包括以下步骤:在催化剂存在下,将含有过氧化氢的甲醇水溶液进行分解反应,分解反应的条件包括:温度为30‑100℃;其中,催化剂包括具有MFI拓扑结构的钛硅分子筛和氧化铝;以催化剂总量为基准计,具有MFI拓扑结构的钛硅分子筛的含量为40‑90质量%,氧化铝的含量为10‑60质量%;催化剂的侧压破碎强度为70‑150N/cm。该方法选用含有具有MFI拓扑结构的钛硅分子筛与氧化铝的催化剂,能够降低过氧化氢的质量分数,同时,在长周期运行过程中避免了活性组分的大量流失,分解活性保持稳定。

    一种序批式好氧颗粒污泥反应器

    公开(公告)号:CN119638061B

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202510187291.8

    申请日:2025-02-20

    Abstract: 本发明公开了一种序批式好氧颗粒污泥反应器,涉及污水处理技术领域,包括反应罐,反应罐内通过隔板分隔为上方的好氧颗粒污泥反应腔和下方的缺氧静置腔,还包括序批供水机构、上移清水排出控制机构、多功能污泥搅动机构、多功能曝气机构和三相分离排水机构,序批供水机构包含有上水筒,隔板的中部固定连接有滑动套,滑动套的内侧与上水筒竖向滑动连接,上水筒的底端固定连接活塞圆板的中部,活塞圆板的外周侧与缺氧静置腔的内壁滑动连接;该序批式好氧颗粒污泥反应器,采用序批式的污水处理进程,对污水处理的步骤紧凑,清水排出时,可以避免泥滤层散开导致好氧颗粒污泥反应腔内底部进入的污水混入上层的清水,可以确保污水处理的效果。

    一种超纯水的二阶净化设备及净化工艺

    公开(公告)号:CN119219281B

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202411759176.5

    申请日:2024-12-03

    Abstract: 一种超纯水的二阶净化设备及净化工艺,所述设备包括依次连接的一阶系统和二阶系统;一阶系统将一次纯水处理得到二次纯水,包括除盐单元、第一混合光解吸收器和脱气单元;二阶系统将二次纯水处理得到超纯水,包括膜吸收器、第二混合光解吸收器和脱气超滤单元;第一混合光解吸收器具有第一光解区及其下游的第一处理区,第一光解区的辐射剂量在300‑800mJ/cm2;膜吸收器包括溶氢膜和供氢管线,为下游第二混合光解吸收器提供充氢水;第二混合光解吸收器具有第二光解区及其下游的第二处理区,第二光解区的辐射剂量在200‑900mJ/cm2。本发明有效实现了对超纯水各项指标的综合控制,为纳米半导体制造工艺与加工品质提供保障。

    一种高磷含氟废水深度处理系统及方法

    公开(公告)号:CN119898925A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202510290193.7

    申请日:2025-03-12

    Inventor: 汤小尚 陈达

    Abstract: 本发明公开了一种高磷含氟废水深度处理系统及方法,包括高磷含氟废水均和池、一级除磷除氟系统及二级深度处理系统、产水池和再生加药装置,一级除磷除氟系统包含反应系统和第一沉淀池,二级深度处理系统包括依次相连的预处理池、第二沉淀池、澄清池、深度处理预处理过滤装置、过滤水池与高氟深度处理树脂交换塔,高磷含氟废水均和池与反应系统的入口相连,反应系统的出水口依次与第一沉淀池、二级深度处理系统、产水池相连,澄清池的不合格产水口与高磷含氟废水均和池相连,高氟深度处理树脂交换塔的出水口与冲洗及再生进水总管路相连。采用本发明方法对电子芯片制造产生的含磷含氟废水进行处理,除磷除氟率达到99%以上。

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