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公开(公告)号：CN119931596A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202411884727.0
申请日：2024-12-20
Applicant: 广西产研神光先进光学研究中心有限公司 , 广西产研院先进技术融合创新促进中心有限公司 , 广西神光光学科技有限责任公司
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明公开一种高效金刚砂研磨液及其制备方法，由包括如下重量份的原料制成：金刚砂5‑10份、极压添加剂0.03‑0.12份、润滑剂0.06‑0.12份、防锈剂0.03‑0.06份、多元醇0.03‑0.12份、杀菌剂0.006‑0.03份、表面活性剂0.05‑0.1份，去离子水80‑100份。本发明大大改良了金刚砂在溶剂中的分散效果，提升了研磨一致性，研磨效率高，延长了使用寿命，具有良好的应用前景。
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公开(公告)号：CN118909594B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202411402298.9
申请日：2024-10-09
Applicant: 浙江湖磨抛光磨具制造有限公司
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明涉及研磨介质领域，尤其涉及一种高岭土超细化研磨介质及其制备方法，包括按重量份计的下述组分：改性高岭土40～65份、氧化铝20～25份、氧化锆10～15份、刚玉10～20份、氮化硅5～15份、长石1～3份和纳米二氧化硅5～10份。本发明用硫酸溶液中来预处理高岭土，然后将高岭土料与纳米氧化锌的混合物于100～200℃干法加热2～3h，得到改性高岭土，改性高岭土能显著提高研磨介质的腐蚀性、稳定性和耐磨性。
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公开(公告)号：CN114667328B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202180005005.1
申请日：2021-07-07
Applicant: 株式会社纳米新素材
Abstract: 本发明涉及一种氧化铈复合粉末以及包含所述氧化铈复合粉末的分散组合物，所述氧化铈复合粉末，含有粒子大小互不相同且满足特定组合范围的两种以上的氧化铈粒子，而且通过对分散组合物溶液内所包含的氧化铈复合粉末的平均密度进行控制，在将其适用于分散组合物时，可以在不对基板造成损伤的同时实现较高的研磨速度，还具有储藏稳定性优秀的优点。
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公开(公告)号：CN119875518A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510378951.0
申请日：2025-03-28
Applicant: 内蒙古大学
Abstract: 本发明提供了一种用于浅槽隔离的改性氧化铈抛光液及其制备方法，该抛光液以质量百分比计，主要由以下原料制得：改性氧化铈磨料；2%‑5%；去离子水；95%‑98%；其中所述改性氧化铈磨料包括氧化铈磨料与磺酸配体；所述磺酸配体为所述磺酸配体为左旋樟脑磺酸、邻甲苯磺酸、对甲苯磺酸或环己烷‑2‑磺酸中的一种或多种。在本发明的抛光液中，通过利用磺酸配体对氧化铈进行改性从而制备出抛光液，其中磺酸配体的引入使得氧化铈的表面活性增加，确保抛光液均匀分布的同时极大程度地提高抛光液对氧化硅层和氮化硅层的选择比，且磺酸配体的引入能够显著的增强氧化铈颗粒在溶液中的分散性，防止聚集。
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公开(公告)号：CN119823717A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411950627.3
申请日：2024-12-27
Applicant: 广电计量检测集团股份有限公司
IPC: C09K3/14 , B24D15/04 , H01L21/321
Abstract: 本发明公开了一种研磨用组合物及其在去除半导体芯片氮化钛层的应用，所述一种研磨用组合物包括如下质量份的组分：100份水、3‑10份氮化钛、3‑10份金属氧化物。本发明提供了一种研磨用组合物，主要由水、氮化钛、金属氧化物组成，通过使用与被研磨样品相同材质颗粒做成的研磨液，可以确保研磨液与被研磨样品的亲和力，从而提高研磨效率和均匀性，实现纳米级厚度氮化钛层的均匀去除，相比于现在的酸反应消除液腐蚀氮化钛层，本发明的研磨液用水不会产生腐蚀不均匀的问题，从而实现了单颗芯片纳米级厚度氮化钛层的均匀去除。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119820464A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202510308163.4
申请日：2025-03-17
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 , 宁波杭州湾新材料研究院 , 宁波中科祥龙轻量化科技有限公司
Abstract: 本发明提供了一种压力机叶盘磨粒流加工系统及加工方法，属于抛光加工技术领域，包括：作业腔的顶部设置有喷嘴，喷嘴包括上端具有开口的容纳腔，容纳腔的底壁中心位置处设置有圆形的第一喷孔，围绕第一喷孔设置有多圈以第一喷孔为圆心的第二喷孔，每个第二喷孔的内孔壁的底部均设置有弧形引导面，位于同一圈上的第二喷孔的弧形引导面的内弧面均指向第一喷孔的圆心，随着第二喷孔与第一喷孔之间的直线距离增加，弧形引导面的倾斜角度逐渐增大；优点是喷嘴采用中心第一喷孔配合多圈第二喷孔的结构，并结合第二喷孔底部的弧形引导面的设计，能够实现磨粒流的均匀分散和精准喷射，确保叶盘表面各部位都能获得均匀一致的磨粒冲击力。
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公开(公告)号：CN119794334A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202510001620.5
申请日：2025-01-02
Applicant: 齐鲁工业大学(山东省科学院)
Abstract: 本发明公开了复合磁性磨料及其制备方法，属于磁性磨料技术领域，本发明要解决的技术问题为如何提高磁性磨粒自身性能，降低磁性磨粒的制备成本，技术方案为：复合磁性磨料包括铁基体、粘结剂以及晶须组织，晶须组织是由烧结添加剂与两种研磨相或两种研磨相的其中一种在高温下发生发应产生的增强增韧结构。制备方法为：(1)取两种研磨相、铁基体和烧结添加剂并加入聚乙烯醇水溶液混合均匀得到混合物料；(2)取混合物料进行压制成坯料；(3)将坯料放入干燥箱中进行干燥处理，获取干燥后坯料；(4)取干燥后的坯料放入烧结炉中进行烧结处理，在烧结过程中烧结添加剂与两种研磨相或两种研磨相的其中一种在高温下发生发应产生增强增韧晶须组织。
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公开(公告)号：CN119793489A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202510007626.3
申请日：2025-01-03
Applicant: 云南大学
IPC: B01J27/043 , C02F1/30 , C02F1/72 , B01J35/39 , B01J37/20 , C09K3/14 , C02F101/30
Abstract: 本发明公开了一种用于自循环光催化Fenton的催化材料及其制备方法，涉及催化材料技术领域，该方法包括以下步骤：向氯化锰溶液中加入硫代乙酰胺混合，搅拌加入氨水，然后180‑200℃反应18‑24h，得α‑MnS；将α‑MnS分散于乙醇溶液中，然后加入硫脲搅拌混合，再将泡沫铁镍浸于混合溶液中超声处理，最后120‑140℃反应6‑14h，得用于自循环光催化Fenton的催化材料。本发明还公开了上述方法制得的用于自循环光催化Fenton的催化材料。该催化材料具有高效的自循环光芬顿性能，在污染物降解和废水处理中具有较大应用价值。
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公开(公告)号：CN119755225A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202411973558.8
申请日：2024-12-30
Applicant: 上海碳动新能源科技有限公司 , 山东仁丰特种材料股份有限公司
IPC: F16D69/02 , C09K3/14 , D21H11/16 , D21H13/26 , D21H13/38 , D21H13/50 , D21H13/36 , D21H13/48 , D21H13/46
Abstract: 本公开提供了一种摩擦材料及其制备方法，涉及机械制动传动技术领域，以解决摩擦材料的摩擦性能在厚度方向上不稳定的问题。所述摩擦材料，所述摩擦材料包括：至少一个负载纤维、至少一个孔隙调节纤维和粘结剂，每个所述负载纤维包括纤维基体和负载在纤维基体上的填料，每两个所述负载纤维的密度差异小于预设密度差异。所述摩擦材料的制备方法包括上述技术方案所提的摩擦材料。本公开提供的摩擦材料的制备方法用于制备摩擦材料。
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公开(公告)号：CN115698207B
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202180038648.6
申请日：2021-05-25
Applicant: 弗萨姆材料美国有限责任公司
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/306 , H01L21/3105 , B24B1/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供浅槽隔离(STI)化学机械平面化(CMP)抛光组合物，其使用方法及系统。CMP抛光组合物包含二氧化铈涂覆的无机氧化物颗粒的磨料，如二氧化铈涂覆的二氧化硅；以及用于提供可调的氧化物膜去除速率和可调的SiN膜去除速率的双重化学添加剂；低氧化物沟槽凹陷和高氧化物：SiN选择性。双重化学添加剂包含(1)至少一种含硅氧烷化合物，其在同一分子上包含环氧乙烷和环氧丙烷(EO‑PO)基团中的至少一种，和取代的乙二胺基团中的至少一种；和(2)至少一种具有至少两个，优选至少四个羟基官能团的非离子有机分子。
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