公开(公告)号：CN119709325A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202411797366.6

申请日：2024-12-09

Applicant: 上海东大化学有限公司

Inventor： 何志强 ,  陆晨 ,  高照华 ,  陈骥 ,  崔豫峰

IPC: C11D1/72 ,  C11D3/04 ,  C11D3/20 ,  C11D3/22 ,  C11D3/37 ,  C11D3/40 ,  C11D3/50 ,  C11D3/48 ,  C11D3/00 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/10 ,  C11D17/04

Abstract: 本发明属于日化洗涤剂技术领域，具体涉及环保型抗菌洗衣留香珠及其制备方法，包括以下质量百分数的原料：聚乙二醇高聚物85％～89％；硫酸钠5％～10％；香精2.96％～4.93％；壳寡糖0.5％～1.5％；ε‑聚赖氨酸1％～2％；柠檬酸0.01％～0.03％；白藜芦醇0.2～0.5％；染料0.02％～0.05％。本发明留香珠不仅持久留香，还具有优异的杀菌性能，兼具环保性，且对人体有益无害。

公开(公告)号：CN119570577A

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202411675181.8

申请日：2024-11-21

Applicant: 浙江奥首材料科技有限公司

Inventor： 侯军 ,  吕晶 ,  褚雨露 ,  陶爽

IPC: C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  C11D7/26 ,  C11D7/04 ,  C11D7/10 ,  C11D7/50 ,  C11D7/60 ,  H01L21/768

Abstract: 本发明涉及一种低电偶腐蚀的氮化钛清洗剂，按照重量份计算，包括如下组分：功能剂12‑20份；抗静电剂1‑7份；保护剂0.2‑1份；有机碱6‑13份；氧化剂3‑14份；溶剂15‑25份；超纯水40‑60份。本发明还公开了上述清洗剂的制备方法与用途。功能剂与抗静电剂结合具有蚀刻和降低晶圆表面静电电荷的双重功能，其蚀刻功能可以快速去除氮化钛，同时功能剂与抗静电剂结合后能降低清洗剂与晶圆表面的电位差，防止静电积聚，进一步降低铜和钽的电偶电位，降低铜腐蚀；功能剂还可以提供氟离子，避免使用氢氟酸，造成环境和仪器设备的不良影响。

公开(公告)号：CN119506020A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411651541.0

申请日：2024-11-19

Applicant: 中国科学院大学

Inventor： 罗武干 ,  吴进贤 ,  张瑞德

IPC: C11D7/32 ,  B08B3/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/12 ,  C11D7/10 ,  C11D7/60

Abstract: 本发明涉及一种海洋出水陶瓷文物铁质凝结物去除剂及其制备方法与应用，主要由谷氨酸、甘氨酸、抗坏血酸和草酸等天然有机化合物和氯化钾、氯化钠、碳酸钠等常见无机盐构成，其主要成分安全无毒、绿色环保。对铁质凝结物去除效率高，性质温和(pH值介于6～7之间)，脱除过程安全，去除过程不会对海洋出水陶瓷文物釉面及胎体造成损伤，符合文物保护基本原则，解决了既有方法安全性低和铁质凝结物脱除效果差的瓶颈问题。

公开(公告)号：CN112041970B

公开(公告)日：2025-02-07

申请号：CN201980027525.5

申请日：2019-04-25

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 堀田明伸 ,  尾家俊行 ,  菊永孝裕 ,  山田健二

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/36 ,  C23F1/16 ,  C23G1/02 ,  H01L21/308 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768

Abstract: 根据本发明，可以提供一种水性组合物，其包含：(A)组合物中的氟化物离子浓度达到0.05～30mmol/L的量的氟化物离子供给源；(B)组合物中的阳离子相对于氟化物离子的摩尔比达到0.3～20的量的阳离子供给源；和，以组合物总量基准计为0.0001～10质量％的(C)选自C4‑13烷基膦酸、C4‑13烷基膦酸酯、C4‑13烷基磷酸和它们的盐中的1种以上的化合物，所述水性组合物的pH处于2～6的范围。

公开(公告)号：CN119331621A

公开(公告)日：2025-01-21

申请号：CN202411211600.2

申请日：2024-08-30

Applicant: 湖北兴福电子材料股份有限公司

Inventor： 李少平 ,  汪凡杰 ,  贺兆波 ,  王亮 ,  张庭 ,  叶瑞 ,  欧阳克银 ,  谢建 ,  吴政 ,  孟牧麟 ,  彭秋桂 ,  陈小超 ,  罗海燕 ,  陈麒 ,  范东

IPC: C09K13/00 ,  C23F11/10 ,  C09K13/06 ,  C09K13/10 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/16 ,  C11D7/04 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  C11D7/60

Abstract: 本发明涉及半导体清洗技术领域，具体公开了一种易于清洗的高选择性TiN清洗液，该蚀刻液含有按质量百分数计的以下成分：氧化剂5~60%、有机碱1~10%、非质子性溶剂5~20%、氨基酸0.01~0.5%、铵盐0.1~10%、复方抑制剂0.1~5%余量为水，所述复方抑制剂包括醇醚和杂环氮化物。氧化剂将TiN氧化成易溶于水的HTiO3‑,有机碱作为pH调节剂，铵盐提高了对TiN层的刻蚀速率，氨基酸作为氧化剂稳定剂，复方抑制剂为醇醚（主链C原子数≥8，O原子数≥3）与杂环氮化物（N原子≥2）的混合物，其引入抑制了对低介电常数介电材料、Cu、Co、W的蚀刻，最重要的是，它易于被清洗不会在Cu、Co和W材料上留下残留物。能够用于微电子装置TiN的清洗去除。

公开(公告)号：CN111742392B

公开(公告)日：2024-12-17

申请号：CN201980014145.8

申请日：2019-02-27

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 尾家俊行 ,  堀田明伸 ,  山田健二 ,  菊永孝裕

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/18 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32

Abstract: 本发明涉及在半导体集成电路的制造工序中抑制氧化铝的损伤的同时、能够将存在于半导体集成电路的表面的干蚀刻残渣去除的组合物、以及具有氧化铝的半导体基板的清洗方法、进而具有氧化铝层的半导体基板的制造方法。本发明的组合物的特征在于，其含有钡化合物(A)0.00005～1质量％和氟化合物(B)0.01～20质量％，所述组合物的pH处于2.5～8.0的范围内。

公开(公告)号：CN119060798A

公开(公告)日：2024-12-03

申请号：CN202410996548.X

申请日：2024-07-24

Applicant: 湖北神地汇丰科技有限公司 ,  湖北神地生物科技有限公司 ,  湖北神地农业科贸有限公司

Inventor： 杨丰帆 ,  牛华 ,  王丽梅 ,  彭丽 ,  黄翠 ,  杨砚

IPC: C11D7/02 ,  C11D7/10 ,  C11D7/26 ,  C11D7/44 ,  C11D7/42 ,  A23L5/20

Abstract: 本发明公开了一种天然蛋壳果蔬清洗粉及其制备方法。适用于蔬菜、水果、米类、蛋类、肉类、水产品的清洗。所述蛋壳果蔬清洗粉包括以下组分:蛋壳粉、胶岭石、玉米提取物、糖类、食盐、碱性脂肪酶、碱性蛋白酶、助剂。其中，蛋壳粉由改性的煅烧蛋壳粉或者煅烧蛋壳粉与改性的煅烧蛋壳粉复配而成，蛋壳经煅烧活化、降解、改性、超细研磨后，比表面积增大的同时呈现出均匀的孔穴，吸附性能增强，与此同时，活化、降解、改性蛋壳粉溶于水后提供的碱性环境，不仅可以使大部分酸类农药残留物和有机磷类农药残留物得到处理，还使得碱性脂肪酶、碱性蛋白酶保持在高活性状态，大大提高了杀菌能力以及污渍和农药残留的溶解效率。

公开(公告)号：CN119020113A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202411040308.9

申请日：2024-07-31

Applicant: 浙江奥首材料科技有限公司

Inventor： 侯军 ,  吕晶 ,  褚雨露 ,  张文宇

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/08 ,  C11D7/50 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/60 ,  C23F11/12 ,  C23F11/08 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及一种半水基芯片蚀刻后残留物清洗液及其制备方法与用途。所述清洗液，按照重量份计算，包括如下组分：复合功能剂0.1‑0.5份；pH调节剂2‑4份；保护剂0.1‑1份；氢氟酸0.1‑1份；氟化铵0.5‑1.5份；有机溶剂40‑60份；超纯水20‑40份。本发明复合功能剂可将芯片上附着的蜡质层、研磨脏污等污染物清洗彻底，且不会在溶液表面形成蜡质，也不会对芯片造成脏污回粘，其具有缓蚀和乳化稳定的双重功能，缓蚀功能可以保护芯片避免腐蚀，而乳化稳定功能则是在该体系中具有优异的乳化性能和稳定性能，从而保证了整个体系的油‑水均匀混合。

公开(公告)号：CN118360111A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202310058673.1

申请日：2023-01-18

Applicant: 中国石油天然气股份有限公司

Inventor： 李振忠 ,  王美淇 ,  程光剑 ,  张海丰 ,  李学 ,  刘金慧 ,  曹帅 ,  曹志涛 ,  高永强 ,  莫娅南 ,  张晓琳 ,  张英杰 ,  贾钧升

IPC: C11D7/32 ,  B08B13/00 ,  C11D7/10 ,  C11D7/60

Abstract: 本发明属于石油化工领域，公开了一种硫化亚铁及含硫化氢气体钝化清洗剂及清洗系统，钝化清洗剂，包括0.1％～25％质量的络合剂、0.1％～15％质量的钝化剂、0.1％～5％质量的中和剂、0.1％～10％质量的缓蚀剂，其余部分为溶剂。通过钝化清洗剂泵将钝化清洗剂原液罐中的钝化清洗剂打入溶液箱中，与工业进水按比例混合，混合后的钝化清洗剂通过循环水泵，打入待清洗设备顶端，通过待清洗设备底部排凝阀流回到溶液箱内，实现循环清洗的目的。能够实现在系统建立循环前对工业水和钝化清洗剂按屏幕设定配比进行加注，在建立循环以后，可以根据在线PH值的实时监测值系统程序自动进行钝化剂和工业水的加注，达到精准控制。

公开(公告)号：CN115873670B

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN202211511421.1

申请日：2022-11-29

Applicant: 苏州近岸蛋白质科技股份有限公司

Inventor： 王笃强 ,  石加加 ,  徐志豪 ,  颜怀肖

IPC: C11D7/40 ,  G01N27/447 ,  C11D7/10 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/60

Abstract: 本发明公开了一种消除核酸污染的生物酶清除剂及其制备方法，所述生物酶消除剂的组分包括全能核酸酶、缓冲液、辅助因子和稳定剂，在上述各组分的协同作用下，所述生物酶清除剂具有无强氧化性、无腐蚀性、无毒性的特点，不会伤害到人体或破坏物体表面；施用操作简单，无需分两步操作，一管式喷洒即可清除核酸污染；相比现有技术中的核酸酶清除剂，本发明所述生物酶清除剂，施用一段时间后会自动降解，不会造成残留或二次污染；本发明所述生物酶清除剂不仅可以在常温下高效发挥作用，还可以应用在低温环境，从而能够适用于各种环境温度下的核酸清除。