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公开(公告)号：CN119923598A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202380070242.5
申请日：2023-09-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·贾哈尼 , J·P·范恩格尔 , 罗克珊娜·雷兹瓦尼纳拉吉 , I·D·塞蒂贾
Abstract: 一种检查系统，包括：具有基底、波导系统、以及设置在基底上的第一光栅耦合器和第二光栅耦合器的集成光学系统、第一检测器和第二检测器、以及微结构化照射调整器。集成光学系统接收从目标散射的照射的具有相应的第一至第四波长的第一至第四部分。第一至第四光栅耦合器将第一至第四部分发射到波导系统中。第一波长和第二波长不同于第三波长和第四波长。第一检测器接收第一部分和第二部分的组合以生成第一测量信号。第二检测器接收第三部分和第四部分的组合以生成第二测量信号。微结构化照射调整器包括第一至第四微结构化区，以将第一至第四部分引导至第一至第四光栅耦合器中的相应光栅耦合器。
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公开(公告)号：CN119907946A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202380067027.X
申请日：2023-09-19
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： R·格洛里安
Abstract: 本发明涉及一种用于投射曝光设备(1)的光学组件(102)，包括光学元件(126)和承载光学元件(126)的安装座(128)，其中安装座(128)包括安装座下部(136)和可释放地连接到安装座下部(136)的安装座上部(138)，其中光学元件(126)仅连接到安装座上部(138)，并且其中安装座上部(138)包括多个可弹簧弹性变形的支承脚(246)，光学元件(126)支承在支承脚(246)上。
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公开(公告)号：CN119895331A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202380057414.5
申请日：2023-06-02
Applicant: 宝丽来知识产权有限公司
Abstract: 本公开提供了具有改进的反射率和隔热特性的底漆层(104)以用于微封装热成像片材(100)。具有相对于所述底漆层的总重量为约3重量％至约60重量％的聚合物粘结剂、白色微粒、底漆基底(102)和中空微粒颗粒的底漆层改进包括所述底漆层的微胶囊(108)成像片材的反射率、显色、颜色密度和隔热。在与所述底漆层相对的一侧上施加到所述基底的黑色背面涂层(105)进一步增强微胶囊成像片材的Dmax和E10并防止微胶囊成像片材在堆叠媒体中过早曝光。
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公开(公告)号：CN119874763A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510370330.8
申请日：2025-03-27
Applicant: 珠海基石科技有限公司
IPC: C07F7/22 , G03F7/00 , H01L21/027 , G03F7/004
Abstract: 本申请涉及金属‑有机杂化图案化材料技术领域，具体涉及一种单锡配合物及其制备方法、图案化组合物、形成图案的方法和图案化薄膜。该单锡配合物结构如下述式（1）所示：#imgabs0#式（1）；其中，X是硫或硒，R1是取代或未取代的C1到C20烷基，R2到R5各自独立地选自氢、取代或未取代的C1到C20烷基。该单锡配合物为五配位金属化合物，空间位阻大，能够避免金属锡被环境中的水分子进攻发生水解，产生沉淀，稳定性好且在多种有机溶剂中溶解度好。
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公开(公告)号：CN114556216B
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202080071401.X
申请日：2020-10-08
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种正型感光性树脂组合物，其包含一种或多种不同于传统苯并三唑类可交联反应的酚式羟基化合物、具有特定结构的两种反应性硅烷化合物的硅氧烷共聚物，以及具有烷氧基的UV吸收剂；此正型感光性树脂组合物可最大限度地降低残留杂质如未反应单体和催化剂，进而确保优异的面板可靠性，不仅敏感度、分辨率和平坦度等性能优异，且耐候性、紫外线吸收率也优异。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119861527A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411903787.2
申请日：2024-12-23
Abstract: 本发明公开了一种基于低电压冰胶电子束曝光的三维灰度结构及三维微纳结构的制造方法，包括：在加工面上沉积一层冰层；然后利用低能量电子束分层曝光，去除每层特定部分的冰层，最终形成带有特定灰度图案的三维灰度冰雕结构；可选择的在三维冰雕结构采用物理气相沉积发沉积材料，形成三维微纳结构；所述冰层为水冰；所述低电压电子束能量低于5keV。本发明利用iEBL的特性以及水冰中的低能量曝光，不紧可以获得无需支撑结构的三维冰雕结构，而且可以将灰度冰雕成功转化为高纯度的三维金属结构。这一突破为采用水冰抗蚀剂改进纳米器件制造提供了潜力，并确立了iEBL在构建精细、无污染的三维金属纳米结构中的关键技术地位。
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公开(公告)号：CN119861434A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202510277503.1
申请日：2025-03-10
Applicant: 天府兴隆湖实验室
Abstract: 本申请提供了一种双面结构可以相同，也可以不同的超表面器件，通过设计特定形状的双面纳米柱结构，利用特定尺寸的纳米柱组成的双层超表面可以增加器件上每个点的设计自由度，因为其长宽高以及旋向在各个点处均可以不同，而双层进一步增加了其设计自由度，相比于传统鲍威尔扩束系统，复杂面型增加了加工的难度，并无超表面带来的自由度，因此，该双层超表面可以通过改变纳米尺寸的长，宽，高，以及旋向，可以达到更好的扩束效果。
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公开(公告)号：CN115857067B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202211739816.7
申请日：2022-12-30
Applicant: 湖南大学 , 湖南大学深圳研究院 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种逆向设计的超构表面器件及其制备、设计方法，包括从下至上依次设置的透明介质衬底与第一层电介质微纳单元结构、HSQ分隔层和第二层电介质微纳单元结构，根据层数不同可追加更多层数的微纳单元结构。本发明逆向设计的超构表面器件通过在现有数据库的基础上，采用逆向设计的方法，训练优化网络后获得了其他结构参数以及自由形状结构的光学响应，为正向设计方法中难以获得的高自由度形状提供了全新的设计思路。本发明利用GPU的并行计算能力提高计算性能，而且将多种算法相互融合，避免了局部最优解、难以收敛等问题，计算资源损耗低，计算结果优秀。采用套刻工艺进行多层的制备，工艺简单，层间对准精度高。
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公开(公告)号：CN119856116A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202380065323.6
申请日：2023-09-08
Applicant: ASML荷兰有限公司 , IMEC非营利协会
Inventor： 保罗·亚历山大·维梅伦 , E·E·加拉格尔 , I·K·A·保伦提亚 , S·布雷姆斯
Abstract: 一种用于在光刻设备中使用的表膜，所述表膜包括：隔膜，所述隔膜具有第一部分和第二部分；以及保护部分，所述保护部分在所述隔膜的至少一侧上位于所述第二部分处。一种用于形成用于在光刻设备中使用的表膜的方法，所述方法包括：提供隔膜，所述隔膜具有第一部分和第二部分；以及在所述隔膜的至少一侧上在所述第二部分处提供保护部分。
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公开(公告)号：CN112835260B
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202110015312.X
申请日：2021-01-05
Applicant: 住华科技股份有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组成物、及应用其的彩色滤光片和显示装置。感光性树脂组成物包括八面体金属氧化物粒子、聚合树脂及光聚合起始剂。
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