一种半导体设备用定位装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119943733A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202510127438.4

    申请日:2025-02-05

    Inventor: 杨健 张宏伟 罗洋

    Abstract: 本发明涉及半导体设备领域,具体公开了一种半导体设备用定位装置,包括封装测试台机构和转移机构:所述封装测试台机构包括封装测试台组件,所述封装测试台组件的上侧安装有夹持组件和吸附组件;所述转移机构包括安装于封装测试台组件外侧的转移组件,所述转移组件上还安装有驱动组件;所述夹持组件包括第一夹持件和第二夹持件;本发明通过转移组件和驱动组件的协同工作,本装置能够自动地将异常晶圆从封装测试台上移除,并引导其滑动到指定位置进行报废处理,这种设计不仅简化了晶圆报废的流程,还降低了人工操作的难度和成本;通过夹持组件和吸附组件的双重作用,晶圆在封装测试过程中得到了稳定而可靠的固定。

    监控半导体器件被残留的卤族元素污染的方法

    公开(公告)号:CN119943697A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202510053807.X

    申请日:2025-01-14

    Abstract: 本申请提供一种监控半导体器件被残留的卤族元素污染的方法,先形成PN结导通回路、与PN结导通回路一端相连的第一导电插塞、中间金属层和第三导电插塞、以及与PN结导通回路另一端相连的第二导电插塞、中间金属层和第四导电插塞,随后获取半导体器件的缺陷图,最后根据缺陷图,获取接触孔的接触情况和填充情况,并根据接触情况和填充情况来诊断是否存在卤族元素残留,是否对半导体器件造成污染。本申请通过PN结导通回路与接触孔中的导电插塞配合,根据缺陷图诊断接触孔的接触情况和填充情况,从而实时、有效地监控卤族元素的残留情况,这样可以对芯片质量作出直接反应,对卤族元素微量变化做出敏锐反馈。

    半导体自动测试设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119943693A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202411950271.3

    申请日:2024-12-26

    Abstract: 本申请涉及半导体测试技术领域,提供了一种半导体自动测试设备。半导体自动测试设备至少包括上料机台模块、测试机台模块和收料机台模块,各个模块共同限定出流转路径;各个模块互相独立,且各个模块均包括安装基板及设于对应安装基板的操作部件,各个安装基板沿流转路径方向可拆卸连接;半导体自动测试设备还包括移送料梭,沿流转路径方向,至少部分任意相邻的两个安装基板之间可拆卸连接有一移送料梭,各个移送料梭至少用于将对应上游的模块上的半导体搬运至下游的模块。本申请提供的半导体自动测试设备在保证测试效率和测试精度的同时,在工艺流程变化时便于及时调整,整体改造成本降低,耗时也短。

    半导体晶片的评价方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115698686B

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202180037081.0

    申请日:2021-03-03

    Abstract: 本发明提供一种利用激光表面检查装置评价半导体晶片的半导体晶片的评价方法。上述半导体晶片在半导体基板上具有覆盖层,上述激光表面检查装置具有:第一入射系统;第二入射系统,以比第一入射系统入射到被照射面的光的入射角高的角度的入射角使光入射到被照射面;第一受光系统;第二受光系统;以及第三受光系统。上述三种受光系统的选自由接收从被照射面放射的光的受光角和偏振选择性构成的组中的一个以上各不相同。包括在上述覆盖层的表面通过如下方式进行上述半导体晶片的评价:基于包含三种低入射角测定结果和至少一种高入射角测定结果的多个测定结果,将选自由存在于上述覆盖层的表面的附着物和非附着凸状缺陷构成的组中的缺陷种类检测为亮点,上述三种低入射角测定结果是通过由上述三种受光系统分别接收通过从第一入射系统入射的光在上述表面反射或散射而放射的放射光而得到的,上述至少一种高入射角测定结果是通过由上述三种受光系统的至少一种接收通过从第二入射系统入射的光在上述表面反射或散射而放射的放射光而得到的。

    可移动封装、测试装置以及测试方法

    公开(公告)号:CN119916177A

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202411988456.3

    申请日:2021-10-05

    Abstract: 本申请公开了可移动封装、测试装置以及测试方法。可移动封装包括:可移动封装体,其包括用于将基板保持在其间的第一部件和第二部件,所述基板承载微电子电路并具有连接到所述微电子电路的多个基板端子;多个可移动封装触头,所述触头在所述第二部件上,所述可移动封装触头与所述基板端子匹配以与所述基板端子接触;固定系统;以及第一电接口,所述第一电接口在所述可移动封装体上并且连接到所述可移动封装触头,用于当所述可移动封装体由框架可移除地保持时连接到所述框架上的第二电接口。

    一种宽禁带半导体亚表面损伤层厚度的检测方法、装置

    公开(公告)号:CN115424953B

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202211150534.3

    申请日:2022-09-21

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种宽禁带半导体亚表面损伤层厚度的检测方法、装置,通过将包含截面的宽禁带半导体晶圆片结构检测片作为工作电极连接作为对电极的金属催化剂,并浸泡入刻蚀液,再采用特定波长的入射光照射到截面上,在所述截面上产生光生空穴‑电子对;再通过腐蚀液对所述非损伤层侧面区域进行刻蚀,而所述损伤层侧面区域不发生刻蚀,从而在刻蚀完成后根据所述截面的形态得到所述损伤层的厚度;本发明通过直接观测反应后晶圆片截面的形态,便可精确定量出宽禁带半导体晶圆片在不同加工过程中产生的损伤层厚度,从而降低宽禁带半导体材料的加工损失及加工成本。

    检查装置的控制方法以及检查装置

    公开(公告)号:CN114068342B

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202110875091.3

    申请日:2021-07-30

    Abstract: 本发明提供一种提高了处理能力的检查装置的控制方法以及检查装置。该检查装置包括:载置台,其用于载置具有多个被检查体的基板,并且形成有多个分区;以及加热部,其能够针对各个上述分区进行升温控制,该检查装置的控制方法具有如下工序:在对多个上述被检查体中的检查对象的第一被检查体进行检查时,通过上述加热部使与上述第一被检查体对应的分区、以及与下一个检查对象的第二被检查体对应的分区升温。

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