Invention Grant
- Patent Title: 电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和酞菁晶体及其制造方法
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Application No.: CN201510212933.1Application Date: 2015-04-29
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Publication No.: CN105022240BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 久野纯平 , 西田孟 , 田中正人 , 川原正隆 , 渡口要
- Applicant: 佳能株式会社
- Applicant Address: 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
- Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
- Agency: 北京魏启学律师事务所
- Agent 魏启学
- Priority: 2014-094020 2014.04.30 JP
- Main IPC: G03G5/06
- IPC: G03G5/06 ; G03G21/18 ; G03G15/00 ; C30B29/54 ; C07D487/22

Abstract:
本发明涉及电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和酞菁晶体及其制造方法。提供一种能够输出抑制了正重影的图像的电子照相感光构件,和各自具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。所述电子照相感光构件具有感光层,所述感光层包括酞菁晶体,在所述酞菁晶体中含有由式(1)表示的化合物的,其中由式(1)表示的化合物的含量基于酞菁晶体为0.1质量%以上且1.7质量%以下。
Public/Granted literature
- CN105022240A 电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和酞菁晶体及其制造方法 Public/Granted day:2015-11-04
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IPC分类: