Invention Grant
- Patent Title: 粘合带及晶片加工用胶带
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Application No.: CN201480016641.4Application Date: 2014-03-27
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Publication No.: CN105143380BPublication Date: 2019-05-17
- Inventor: 佐野透 , 杉山二朗 , 矢吹朗
- Applicant: 古河电气工业株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 古河电气工业株式会社
- Current Assignee: 古河电气工业株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京品源专利代理有限公司
- Agent 吕琳; 刘明海
- Priority: 2013-068299 2013.03.28 JP
- International Application: PCT/JP2014/058772 2014.03.27
- International Announcement: WO2014/157471 JA 2014.10.02
- Date entered country: 2015-09-17
- Main IPC: C09J7/38
- IPC: C09J7/38 ; C09J4/00 ; H01L21/301 ; H01L21/304

Abstract:
本发明的目的在于,提供一种晶片加工用胶带,其具有适于利用扩张来截断胶粘剂层的工序的均匀扩张性和拾取性,并且刀片划片工序中的切削性和拾取性也优异。本发明使用如下的粘合带,其特征在于,在基材膜的一方的面上层叠粘合剂层,在比较从所述粘合剂层的所述基材膜侧的表面起厚1μm的区域的基于红外吸收光谱分析的4000~650cm-1的红外光谱、和从所述粘合剂层的与所述基材膜侧相反一侧的表面起厚1μm的区域的基于红外吸收光谱分析的4000~650cm-1的红外光谱时,匹配度为95%以下,从与所述基材膜侧相反一侧的表面起厚1μm的区域的粘合剂层含有在分子中具有放射线固化性碳-碳双键的化合物(A)、和选自聚异氰酸酯类、三聚氰胺‑甲醛树脂及环氧树脂中的至少1种的化合物(B)。
Public/Granted literature
- CN105143380A 粘合带及晶片加工用胶带 Public/Granted day:2015-12-09
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IPC分类: