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一种显影的方法及装置
Abstract:
本发明公开了一种显影的方法及装置,属于显示领域。所述方法包括:获取第一位置的曝光间距变化量,所述第一位置是第二位置在掩膜板上的投射位置,所述第二位置是基板上的一位置;根据所述曝光间距变化量,确定向所述第二位置喷洒显影液的流量;根据所述流量,向所述第二位置喷洒显影液,所述显影液用于刻蚀位于所述第二位置处的有机材料。所述装置包括:获取模块、确定模块和喷洒模块。本发明能够均一各图形线宽。
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