光/光学辐射的处理装置、设计这种装置的方法和系统
Abstract:
本发明涉及用于处理光辐射(108)的装置(100),装置(100)包括限定多通过腔体(106)的至少两个光学反射元件(102,104),使得所述光学元件(102,104)中的至少一个在至少两个不同的反射位置处反射所述光辐射(108)至少两次,其特征在于,所述装置包括至少一个被称为校正元件的元件,所述校正元件具有至少一个被称为校正位置的位置,所述校正位置实现所述光学辐射的反射或透射,并且其表面是不规则的,使得所述校正位置(116)的空间相位轮廓对于所述校正位置(116)的多个不同的反射或透射点具有不同的相移。本发明还涉及用于设计这样的装置(100)的方法和系统。
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