稀释剂组合物

Invention Publication

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Patent Title: 稀释剂组合物
Patent Title (English): THINNER COMPOSITION
Application No.: CN201610796689.2

Application Date: 2016-08-31
Publication No.: CN106483769A

Publication Date: 2017-03-08
Inventor: 崔哲珉 , 宋寅珏 , 李京浩
Applicant: 东友精细化工有限公司
Applicant Address: 韩国全罗北道
Assignee: 东友精细化工有限公司
Current Assignee: 东友精细化工有限公司
Current Assignee Address: 韩国全罗北道
Agency: 北京度衡知识产权代理有限公司
Agent 杨黎峰; 钟锦舜
Priority: 10-2015-0123395 2015.09.01 KR
Main IPC: G03F7/16
IPC: G03F7/16 ; G03F7/42

Abstract:

一种稀释剂组合物，包括：丙二醇烷基醚乙酸酯、环酮和甲基2-羟基异丁酸酯。所述稀释剂组合物具有优异的EBR、RRC和再加工性能以及改善光致抗蚀剂涂覆均匀性的效果，特别地，对具有高极性的光致抗蚀剂表现出优异的溶解性，以可应用于各种光致抗蚀剂。

Abstract(English):

A thinner composition includes propyleneglycol alkylether acetate, cycloketone, and methyl 2-hydroxy isobutyrate. The thinner composition has excellent EBR, RRC, and rework properties, as well as effects of improving photoresist application uniformity, and in particular, exhibiting excellent solubility to photoresist having a high polarity, so as to be applicable to various photoresists.

Public/Granted literature

CN106483769B 稀释剂组合物 Public/Granted day:2019-10-11

Information query

Chinese Patent Announcement Global Dossier Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/16	.涂层处理及其设备（用于基底材料涂层一般入B05；用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C1/74）