Invention Publication
- Patent Title: 高线性度毫米波器件及其制作方法
- Patent Title (English): High-linearity millimeter wave device and making method thereof
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Application No.: CN201611092583.0Application Date: 2016-12-01
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Publication No.: CN106711185APublication Date: 2017-05-24
- Inventor: 杨凌 , 康慨 , 周小伟 , 马晓华 , 郝跃
- Applicant: 西安电子科技大学
- Applicant Address: 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
- Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
- Agency: 陕西电子工业专利中心
- Agent 王品华; 朱红星
- Main IPC: H01L29/06
- IPC: H01L29/06 ; H01L21/336

Abstract:
本发明公开了一种高线性度毫米波器件及其制作方法,主要解决现有器件跨导的线性度差的问题。其器件自下而上包括衬底层(1)、成核层(2)、缓冲层(3)、第二沟道区(4)、背势垒层(5)、第一沟道区(6)、插入层(7)和势垒层(8),势垒层上刻蚀有深度至背势垒层的凹槽,凹槽的内壁和势垒层上设有增强沟道区(9);增强沟道区上设有导电帽层(10);导电帽层上两端设置源电极(11)和漏电极(12);凹槽内导电帽层上刻有槽栅;槽栅内壁和导电帽层上除源电极和漏电极外的区域设有钝化层(13);槽栅内的钝化层上设置T型栅电极(14)。本发明拓宽了跨导峰值范围,提高了跨导的线性度,可用于通讯、导航和雷达、基站系统。
Public/Granted literature
- CN106711185B 高线性度毫米波器件及其制作方法 Public/Granted day:2019-08-13
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IPC分类: