形成光电器件的光活性层的方法
Abstract:
形成光电器件的薄膜光活性层的方法,其包括:提供衬底,该衬底具有包含或涂覆有金属M的表面,该金属M选自Pb、Sn、Ge、Si、Ti、Bi或In的至少一种;和将该衬底的金属表面或金属涂层转化为钙钛矿层。
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