Invention Publication
CN107256924A 阻变器件及其制作方法、显示基板的制作方法、显示装置
失效 - 权利终止
- Patent Title: 阻变器件及其制作方法、显示基板的制作方法、显示装置
- Patent Title (English): Resistive device and manufacturing method thereof, manufacturing method of display substrate, and display device
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Application No.: CN201710434611.0Application Date: 2017-06-09
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Publication No.: CN107256924APublication Date: 2017-10-17
- Inventor: 邢伟强 , 邓金阳 , 赵德友 , 毛振华 , 李默 , 陈勋 , 李松
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- Agency: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- Agent 滕一斌
- Main IPC: H01L45/00
- IPC: H01L45/00

Abstract:
本发明公开了一种阻变器件及其制作方法、显示基板的制作方法、显示装置,属于电子制造领域。所述阻变器件的制作方法包括:形成第一电极层;在所述第一电极层上形成表面相互接触的碳单质层和过渡金属氧化物层;对所述表面相互接触的碳单质层和过渡金属氧化物层进行退火,以使碳单质层至少部分地通过与所述过渡金属氧化物层之间发生的氧化还原反应以气体的形式挥发,并使所述过渡金属氧化物层由其内部产生的氧空位而向阻变材料转变;形成第二电极层。本发明能够解决阻变器件的阻变特性在制作工艺中难以调整的问题,实现高品质而低成本的阻变器件的制作工艺。
Public/Granted literature
- CN107256924B 阻变器件及其制作方法、显示基板的制作方法、显示装置 Public/Granted day:2019-10-11
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