Invention Grant

  • Patent Title: 一种双重载流子存储增强的IGBT
  • Application No.: CN201710447466.X
    Application Date: 2017-06-14
  • Publication No.: CN107275381B
    Publication Date: 2019-08-13
  • Inventor: 黄铭敏
  • Applicant: 四川大学
  • Applicant Address: 四川省成都市武侯区一环路南一段24号
  • Assignee: 四川大学
  • Current Assignee: 四川大学
  • Current Assignee Address: 四川省成都市武侯区一环路南一段24号
  • Main IPC: H01L29/06
  • IPC: H01L29/06 H01L29/739 H01L27/06
一种双重载流子存储增强的IGBT
Abstract:
本发明提供了一种绝缘栅双极型晶体管(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT)器件,其基区与漂移区之间有一个载流子存储区,发射区采用了具有比其它半导体区更高禁带宽度的半导体材料,基区与发射区形成正向导通电压较高的异质PN结,基区与发射极之间通过一个二极管或两个同向串联的二极管或两个以上同向串联的二极管相连,基区与发射极之间的二极管通路的正向导通电压小于基区与发射区形成的异质PN结的正向导通电压。在正向导通时,载流子存储区可使漂移区的少数载流子在靠近基区附近的存储效果得到增强,而基区与发射极之间的二极管使少数载流子存储效果进一步增强。与传统IGBT器件相比,本发明的IGBT器件可获得更低的导通压降。
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