Invention Grant
- Patent Title: 基于键合技术的SOI加速度敏感芯片制造方法
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Application No.: CN201710621307.7Application Date: 2017-07-27
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Publication No.: CN107512699BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 揣荣岩 , 杨宇新 , 李新 , 张贺 , 张冰
- Applicant: 沈阳工业大学
- Applicant Address: 辽宁省沈阳市经济技术开发区沈辽西路111号
- Assignee: 沈阳工业大学
- Current Assignee: 沈阳工业大学
- Current Assignee Address: 辽宁省沈阳市经济技术开发区沈辽西路111号
- Agency: 沈阳智龙专利事务所
- Agent 周智博; 宋铁军
- Main IPC: B81C1/00
- IPC: B81C1/00

Abstract:
基于键合技术的SOI加速度敏感芯片制造方法,其特征在于:该方法是指加速度敏感芯片或相类似敏感芯片的制造方法,所述方法是利用硅硅直接键合技术将两片分别加工的SOI基片(A和B)键合并制成敏感芯片的技术方法。其具有灵敏度高、固有频率高、抗冲击性能好、交叉耦合系数小、重复性和稳定性好、耐高温以及制造工艺与IC工艺兼容等优点。
Public/Granted literature
- CN107512699A 基于键合技术的SOI加速度敏感芯片制造方法 Public/Granted day:2017-12-26
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