Invention Grant
CN107732017B 一种等离激元结构衬底及其制备和应用
失效 - 权利终止
- Patent Title: 一种等离激元结构衬底及其制备和应用
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Application No.: CN201710933104.1Application Date: 2017-10-10
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Publication No.: CN107732017BPublication Date: 2019-08-13
- Inventor: 方哲宇 , 杜博文 , 朱星
- Applicant: 北京大学
- Applicant Address: 北京市海淀区颐和园路5号
- Assignee: 北京大学
- Current Assignee: 北京大学
- Current Assignee Address: 北京市海淀区颐和园路5号
- Agency: 北京万象新悦知识产权代理有限公司
- Agent 李稚婷
- Main IPC: H01L51/44
- IPC: H01L51/44 ; H01L51/48

Abstract:
本发明公开了一种等离激元结构衬底及其制备和应用。所述等离激元结构衬底包括基底、反射层、绝缘层、金属纳米结构阵列和正负电极,首次利用等离激元场增强原理制备钙钛矿器件增强衬底,通过物理方法使钙钛矿材料实现了在红外光波段的吸收限扩展和在整个吸收区间的增强吸收,避免了由化学掺杂钙钛矿层所带来的负面影响。
Public/Granted literature
- CN107732017A 一种等离激元结构衬底及其制备和应用 Public/Granted day:2018-02-23
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