Invention Grant
- Patent Title: CMOS图像传感器及其制作方法
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Application No.: CN201810612052.2Application Date: 2018-06-14
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Publication No.: CN108807440BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 李岩 , 张武志
- Applicant: 上海华力集成电路制造有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
- Assignee: 上海华力集成电路制造有限公司
- Current Assignee: 上海华力集成电路制造有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
- Agency: 上海浦一知识产权代理有限公司
- Agent 郭四华
- Main IPC: H01L27/146
- IPC: H01L27/146

Abstract:
本发明公开了一种CMOS图像传感器,形成于P型半导体衬底上且包括多个像素单元;各像素单元包括表面钳位光电二极管,钳位光电二极管包括形成于P型半导体衬底中的N型埋层和形成于所述N型埋层表面的表面P+层;相邻的表面钳位光电二极管之间的P型半导体衬底表面形成有场氧层;在场氧层的底部形成有第一P型掺杂隔离区;在N型埋层的底部形成有全面注入的第二P型掺杂隔离区,第一P型掺杂隔离区的底部表面的深度大于等于第二P型掺杂隔离区的顶部表面的深度使第一P型掺杂隔离区的底部和第二P型掺杂隔离区相交叠。本发明还公开了一种CMOS图像传感器的制造方法。本发明能保证实现衬底噪声隔离的条件下节省成本。
Public/Granted literature
- CN108807440A CMOS图像传感器及其制作方法 Public/Granted day:2018-11-13
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IPC分类: