Invention Grant
- Patent Title: 阵列基板及其制造方法、显示装置
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Application No.: CN201811486997.0Application Date: 2018-12-06
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Publication No.: CN109449169BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 曾超 , 黄炜赟 , 黄耀 , 高永益
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- Agency: 北京风雅颂专利代理有限公司
- Agent 李莎; 李弘
- Main IPC: H01L27/12
- IPC: H01L27/12 ; H01L21/77

Abstract:
本发明公开了一种阵列基板,包括显示区域和扇出区域;在所述显示区域,设置有信号线,在所述扇出区域,设置有第一扇出线和第二扇出线,所述信号线与所述第一扇出线或第二扇出线连接;在所述第一扇出线所在的第一扇出线层与所述第二扇出线所在的第二扇出线层之间,设置有间隔层;所述间隔层采用绝缘材料制作,用于增大所述第一扇出线层和第二扇出线层之间的层间间隔;所述第一扇出线的正投影与所述第二扇出线的正投影至少存在部分重叠。本发明还公开了一种阵列基板的制造方法和显示装置。本发明提出的阵列基板及其制造方法、显示装置,能够在一定程度上减小显示面板边框宽度。
Public/Granted literature
- CN109449169A 阵列基板及其制造方法、显示装置 Public/Granted day:2019-03-08
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