Invention Grant
- Patent Title: 等离子体处理装置
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Application No.: CN201811136456.5Application Date: 2018-09-28
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Publication No.: CN109585250BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 西川和宏
- Applicant: 日本电产株式会社
- Applicant Address: 日本京都府京都市
- Assignee: 日本电产株式会社
- Current Assignee: 日本电产株式会社
- Current Assignee Address: 日本京都府京都市
- Agency: 北京三友知识产权代理有限公司
- Agent 李辉; 于靖帅
- Priority: 2017-191124 20170929 JP
- Main IPC: H01J37/32
- IPC: H01J37/32
Abstract:
提供等离子体处理装置，其具有：保持部，其保持工件；以及电极部，电极部至少在工件所具有的孔的内部与孔的内壁面的至少一部分在径向上对置。
Public/Granted literature
- CN109585250A 等离子体处理装置 Public/Granted day:2019-04-05
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