Invention Publication
- Patent Title: 具有dV/dt可控性的IGBT
- Patent Title (English): dV/dt IGBTIGBT WITH dV/dt CONTROLLABILITY
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Application No.: CN201811229514.9Application Date: 2018-10-22
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Publication No.: CN109698230APublication Date: 2019-04-30
- Inventor: A.菲利波 , M.比纳 , M.戴内泽 , C.耶格 , J.G.拉文 , F.J.桑托斯罗德里格斯 , A.韦莱 , C.利德兹 , C.P.桑道
- Applicant: 英飞凌科技股份有限公司
- Applicant Address: 德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-15号
- Assignee: 英飞凌科技股份有限公司
- Current Assignee: 英飞凌科技股份有限公司
- Current Assignee Address: 德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-15号
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 孙鹏; 申屠伟进
- Priority: 102017124871.4 2017.10.24 DE
- Main IPC: H01L29/06
- IPC: H01L29/06 ; H01L29/739

Abstract:
一种功率半导体器件(1),包括具有第一导电类型的漂移区(100)的有源单元区(1-2);至少部分布置在有源单元区(1-2)内的多个IGBT单元(1-1),其中该IGBT单元(1-1)中的每个包括沿着垂直方向(Z)延伸到漂移区(100)中的至少一个沟槽(14、15、16);包围有源单元区(1-2)的边缘终止区(1-3);布置在有源单元区(1-2)和边缘终止区(1-3)之间的过渡区(1-5),该过渡区(1-5)具有沿着横向方向(X、Y)从有源单元区(1-2)朝向边缘终止区(1-3)的宽度(W),其中该IGBT单元(1-1)中的至少一些被布置在过渡区(1-5)内或者相应地延伸到过渡区(1-5)中;以及第二导电类型的电浮势垒区(105),其中该电浮势垒区(105)被布置在有源单元区(1-2)内且与IGBT单元(1-1)的沟槽(14、15、16)中的至少一些接触,并且其中该电浮势垒区(105)不会延伸到过渡区(1-5)中。
Public/Granted literature
- CN109698230B 具有dV/dt可控性的IGBT Public/Granted day:2025-03-28
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IPC分类: