Invention Grant
- Patent Title: 喷嘴清洗器以及使用该喷嘴清洗器的自动分析装置
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Application No.: CN201780076861.XApplication Date: 2017-12-08
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Publication No.: CN110121650BPublication Date: 2023-03-31
- Inventor: 宫川拓士 , 吉田悟郎 , 田中裕人 , 野中昂平 , 森高通 , 川原铁士
- Applicant: 株式会社日立高新技术
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社日立高新技术
- Current Assignee: 株式会社日立高新技术
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京银龙知识产权代理有限公司
- Agent 张敬强; 金成哲
- Priority: 2016-252225 20161227 JP
- International Application: PCT/JP2017/044138 2017.12.08
- International Announcement: WO2018/123508 JA 2018.07.05
- Date entered country: 2019-06-12
- Main IPC: G01N35/10
- IPC: G01N35/10

Abstract:
在对具备液面检测功能的喷嘴进行清洗的喷嘴清洗器中,防止无意识的电蚀。在具有贮存清洗液的清洗槽(206)、在喷嘴清洗时以浸渍在清洗槽所贮存的清洗液中的方式配置的第一导电性部件(221)、以第二导电性部件(209)的至少一部分在喷嘴清洗时浸渍在清洗槽所贮存的清洗液中的方式配置且在清洗槽所贮存的清洗液中产生超声波振动的超声波产生机构、控制对第一导电性部件(221)施加的电位的第一电压控制部(302)、控制对第二导电性部件(209)施加的电位的第二电压控制部(303)的喷嘴清洗器中,第一电压控制部(302)对第一导电性部件(221)施加比在喷嘴清洗时对喷嘴施加的第一电位(V1)高的第二电位(V2),第二电压控制部(303)对第二导电性部件(209)施加与第一电位(V1)相等的电位或比第一电位(V1)高的第三电位(V3)。
Public/Granted literature
- CN110121650A 喷嘴清洗器以及使用该喷嘴清洗器的自动分析装置 Public/Granted day:2019-08-13
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