Invention Grant
- Patent Title: 基板清洗装置及基板清洗方法
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Application No.: CN201780080558.7Application Date: 2017-12-22
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Publication No.: CN110121762BPublication Date: 2023-06-16
- Inventor: 吉田幸史 , 樋口鲇美 , 山口直子
- Applicant: 株式会社斯库林集团
- Applicant Address: 日本京都府
- Assignee: 株式会社斯库林集团
- Current Assignee: 株式会社斯库林集团
- Current Assignee Address: 日本京都府
- Agency: 北京市金杜律师事务所
- Agent 陈伟; 闫剑平
- International Application: PCT/JP2017/046090 2017.12.22
- International Announcement: WO2018/128093 JA 2018.07.12
- Date entered country: 2019-06-25
- Main IPC: H01L21/304
- IPC: H01L21/304
Abstract:
向基板(9)供给含有溶剂及溶质在内的处理液。通过使溶剂的至少一部分从处理液中挥发而使处理液固化或硬化，由此使处理液成为微粒保持层。向基板(9)上供给去除液并将微粒保持层从基板(9)去除。微粒保持层含有的溶质成分相对于去除液为不溶性或难溶性而溶剂为可溶性。微粒保持层含有的溶质成分具有在加热至改性温度以上的情况下改性而相对于去除液变为可溶性的性质。去除液在形成微粒保持层后不经过使溶质成分改性既被供给的工序。
Public/Granted literature
- CN110121762A 基板清洗装置及基板清洗方法 Public/Granted day:2019-08-13
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IPC分类:
