Invention Grant
- Patent Title: 功率型半导体器件封装结构的制备工艺
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Application No.: CN201910931349.XApplication Date: 2019-09-29
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Publication No.: CN110676176BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 邱宇峰 , 李现兵 , 赵志斌 , 吴军民 , 张朋 , 张雷 , 唐新灵
- Applicant: 全球能源互联网研究院有限公司
- Applicant Address: 北京市昌平区未来科技城滨河大道18号
- Assignee: 全球能源互联网研究院有限公司
- Current Assignee: 全球能源互联网研究院有限公司
- Current Assignee Address: 北京市昌平区未来科技城滨河大道18号
- Agency: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司
- Agent 李亚南
- Main IPC: H01L21/48
- IPC: H01L21/48 ; H01L21/60 ; H01L23/367 ; H01L23/49 ; H01L23/498

Abstract:
本发明所提供的功率型半导体器件封装结构的制备工艺,通过设置柔性导电层及双面覆导电层的绝缘板,E电极不直接作用于芯片组件上,芯片组件的电流通过柔性导电层到达E电极,芯片组件的热量以垂直方式通过柔性导电层向散热工质传导(例如向四周的电极传热),且第一导电凸起来承接柔性导电层,分散了作用于芯片组件上的压应力,柔性导电层对芯片组件焊接面实现较小的压应力,避免了较大的压力直接作用在芯片组件表面,减少了芯片组件温度循环时高压应力条件下的三向应力损伤,提高了连接可靠性,实现压力与导电和导热的解耦,最终提高了功率型半导体器件封装结构可靠性。
Public/Granted literature
- CN110676176A 功率型半导体器件封装结构的制备工艺 Public/Granted day:2020-01-10
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IPC分类: