本发明公开了一种均匀镀膜方法、镀膜设备及计算机可读存储介质，该均匀镀膜方法包括以下步骤：(1)，根据待沉积光学元件的面形确定沉积源的第一沉积函数分布特性；(2)，根据待沉积光学元件的面形和沉积源的第一沉积函数分布特性确定沉积源的移动轨迹；(3)，获得沉积源的第二沉积函数分布特性；(4)，根据沉积源的第二沉积函数分布特性求解出沉积源移动过程中的移动状态；(5)，采用求解出的沉积源移动过程中的移动状态进行虚拟镀膜，获得虚拟镀膜结果；将虚拟镀膜结果和沉积源的实际沉积结果进行验证。沉积源可移动，沉积源的移动轨迹和移动状态可以被调节，效率高，适应性好。本发明应用于光学元件薄膜制备技术领域。