Invention Grant
- Patent Title: 一种半导体废气处理装置及处理方法
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Application No.: CN202110256920.XApplication Date: 2021-03-09
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Publication No.: CN113048493BPublication Date: 2022-12-13
- Inventor: 杨春涛 , 杨春水 , 张坤 , 蔡传涛 , 席涛涛 , 宁腾飞 , 王继飞 , 闫潇 , 章文军 , 陈彦岗
- Applicant: 北京京仪自动化装备技术股份有限公司
- Applicant Address: 北京市大兴区北京经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座
- Assignee: 北京京仪自动化装备技术股份有限公司
- Current Assignee: 北京京仪自动化装备技术股份有限公司
- Current Assignee Address: 北京市大兴区北京经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座
- Agency: 北京路浩知识产权代理有限公司
- Agent 张建利
- Main IPC: F23G7/06
- IPC: F23G7/06

Abstract:
本发明提供一种半导体废气处理装置及处理方法,半导体废气处理装置包括废气处理装置、可燃气体输送管线、氧气输送管线和制程废气输送管线,可燃气体输送管线与燃烧器连通,可燃气体输送管线上设置有第一质量流量控制器;氧气输送管线与燃烧器连通,氧气输送管线设置有第二质量流量控制器;制程废气输送管线与废气处理装置的进气口连通,制程废气输送管线设置有第一气体分析仪。通过第一气体分析仪分析制程废气的成分,并根据流量和初始温度计算处理制程废气所需可燃气体和氧气的使用量,通过第一质量流量控制器和第二质量流量控制器分别精准控制可燃气体和氧气的流量,确保制程废气充分燃烧,提高废气处理装置的处理效率。
Public/Granted literature
- CN113048493A 一种半导体废气处理装置及处理方法 Public/Granted day:2021-06-29
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