一种半导体废气处理装置及处理方法
Abstract:
本发明提供一种半导体废气处理装置及处理方法,半导体废气处理装置包括废气处理装置、可燃气体输送管线、氧气输送管线和制程废气输送管线,可燃气体输送管线与燃烧器连通,可燃气体输送管线上设置有第一质量流量控制器;氧气输送管线与燃烧器连通,氧气输送管线设置有第二质量流量控制器;制程废气输送管线与废气处理装置的进气口连通,制程废气输送管线设置有第一气体分析仪。通过第一气体分析仪分析制程废气的成分,并根据流量和初始温度计算处理制程废气所需可燃气体和氧气的使用量,通过第一质量流量控制器和第二质量流量控制器分别精准控制可燃气体和氧气的流量,确保制程废气充分燃烧,提高废气处理装置的处理效率。
Public/Granted literature
Patent Agency Ranking
0/0