Invention Grant
- Patent Title: 一种SAR层析高度向成像方法及系统
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Application No.: CN202110141893.1Application Date: 2021-02-02
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Publication No.: CN113495271BPublication Date: 2023-10-31
- Inventor: 陈志扬 , 胡程 , 董锡超 , 崔畅
- Applicant: 北京理工大学 , 北京理工大学重庆创新中心 , 北京理工大学前沿技术研究院
- Applicant Address: 北京市海淀区中关村南大街5号; ;
- Assignee: 北京理工大学,北京理工大学重庆创新中心,北京理工大学前沿技术研究院
- Current Assignee: 北京理工大学,北京理工大学重庆创新中心,北京理工大学前沿技术研究院
- Current Assignee Address: 北京市海淀区中关村南大街5号; ;
- Agency: 北京理工大学专利中心
- Agent 高会允
- Main IPC: G01S13/90
- IPC: G01S13/90

Abstract:
本发明公开了一种SAR层析高度向成像方法及系统,涉及合成孔径雷达技术领域,本发明在进行SAR层析时,考虑相关系数的影响,并根据相关系数提高SAR层析的高度向位置估计精度,避免了非强点目标对SAR层析高度向成像精度的影响。具体方案为:针对同一地区,获取其配准后的共N幅SAR图像,N至少为3;根据高度向成像需求确定平面范围内的点;对应任意一个平面点,在N幅SAR图像分别中选取当前平面点对应的像素,得到共N个待处理像素;利用N个待处理像素,对当前平面向点进行高度向散射信息求解;所有平面点的高度向散射信息组成当前地区的高度向成像。
Public/Granted literature
- CN113495271A 一种SAR层析高度向成像方法及系统 Public/Granted day:2021-10-12
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