Invention Publication
CN113571492A 半导体器件
审中-实审
- Patent Title: 半导体器件
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Application No.: CN202110408671.1Application Date: 2021-04-15
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Publication No.: CN113571492APublication Date: 2021-10-29
- Inventor: 丁义潭 , 文泂烈 , 朴相俊 , 李圭夏
- Applicant: 三星电子株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 倪斌
- Priority: 10-2020-0052606 20200429 KR
- Main IPC: H01L23/522
- IPC: H01L23/522 ; H01L23/528 ; H01L25/065

Abstract:
一种半导体器件,包括:第一结构,包括第一接合结构;以及第二结构,在所述第一结构上,并且包括连接到所述第一接合结构的第二接合结构。所述第一接合结构包括:第一绝缘层;第一接合绝缘层,在所述第一绝缘层上;第一接合焊盘,穿透所述第一绝缘层和所述第一接合绝缘层的至少一部分;以及第一金属图案,在所述第一绝缘层中并且与所述第一接合绝缘层接触,并且具有在比所述第一接合焊盘的上表面更低的高度处的上表面。所述第二接合结构包括:第二接合绝缘层,接合到所述第一接合绝缘层;第二绝缘层,在所述第二接合绝缘层上;以及第二接合焊盘,穿透所述第二接合绝缘层并且连接到所述第一接合焊盘。
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