Invention Grant
- Patent Title: 使用变压器实现衬底处理的均匀性的系统和方法
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Application No.: CN202080083775.3Application Date: 2020-11-23
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Publication No.: CN114762078BPublication Date: 2025-04-25
- Inventor: 苏尼尔·卡普尔 , 丹·马罗尔 , 彭迅
- Applicant: 朗姆研究公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚州
- Assignee: 朗姆研究公司
- Current Assignee: 朗姆研究公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚州
- Agency: 上海胜康律师事务所
- Agent 樊英如; 张静
- Priority: 62/944,323 20191205 US
- International Application: PCT/US2020/061874 2020.11.23
- International Announcement: WO2021/113111 EN 2021.06.10
- Date entered country: 2022-06-02
- Main IPC: H01J37/32
- IPC: H01J37/32 ; H03H7/40

Abstract:
描述了使用变压器以在衬底处理中实现均匀性的系统和方法。所述系统中的一种包括具有第一端部和第二端部的初级绕组。所述第一端部被耦合至阻抗匹配电路的输出端,而所述第二端部被耦合至电容器。所述系统还包括与所述初级绕组相关联的次级绕组,且所述次级绕组被耦合至等离子体室的变压器耦合等离子体(TCP)线圈的第一端部和第二端部。所述初级绕组从所述阻抗匹配电路接收经修正的射频(RF)信号以产生磁通量,从而在所述次级绕组中感应电压。由所述电压所产生的RF信号被从所述次级绕组传送至所述TCP线圈。
Public/Granted literature
- CN114762078A 使用变压器实现衬底处理的均匀性的系统和方法 Public/Granted day:2022-07-15
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