Invention Publication
- Patent Title: 钛和/或钛合金的蚀刻液、使用该蚀刻液的钛和/或钛合金的蚀刻方法、以及使用该蚀刻液的基板的制造方法
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Application No.: CN202180028400.1Application Date: 2021-04-07
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Publication No.: CN115428129APublication Date: 2022-12-02
- Inventor: 内藤幸英 , 松永裕嗣 , 玉井聪
- Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 , 三菱瓦斯化学贸易株式会社
- Applicant Address: 日本东京都;
- Assignee: 三菱瓦斯化学株式会社,三菱瓦斯化学贸易株式会社
- Current Assignee: 三菱瓦斯化学株式会社,三菱瓦斯化学贸易株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都;
- Agency: 北京林达刘知识产权代理事务所
- Agent 刘新宇; 李茂家
- Priority: 2020-072498 20200414 JP
- International Application: PCT/JP2021/014689 2021.04.07
- International Announcement: WO2021/210458 JA 2021.10.21
- Date entered country: 2022-10-13
- Main IPC: H01L21/306
- IPC: H01L21/306 ; C23F1/26 ; C23F1/44 ; H05K3/06
Abstract:
提供一种用于连续且稳定地进行处理的蚀刻方法以及该蚀刻方法中使用的组合物，该蚀刻方法能够抑制铜布线等其它金属的溶出而快速去除由钛和/或钛合金形成的晶种层。更详细而言，提供一种用于蚀刻钛和/或钛合金的组合物以及使用了该组合物的蚀刻方法，该组合物包含过氧化氢(A)、氟化物(B)、氟化物离子以外的卤化物离子(C)和水(D)，其中，以组合物的总量为基准，过氧化氢(A)的含量为0.01～0.23质量％；以组合物的总量为基准，氟化物(B)的含量为0.2～3质量％；以组合物的总量为基准，氟化物离子以外的卤化物离子(C)的含量为0.0005～0.025质量％。
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IPC分类:
