本发明提供了一种用于超导带材微观结构置样方法，包括：步骤1：用金属层对超导带材进行封装；步骤2：分离预设长度的封装在超导带材两侧的金属层；步骤3：固定超导带材和靠近超导层一侧的金属层，分离靠近所述超导带材基带层一侧的金属层；步骤4：从所述超导带材上分离所述超导带材的超导层和缓冲层；步骤5：对分离出的所述组合层的超导层或缓冲层进行置样；步骤6：用检测设备对置样的所述超导层或缓冲层进行观测。与现有技术相比，本发明经过解刨，各个膜层结构保存完好，有利于后期的分析。