Invention Publication
- Patent Title: 一种半导体大硅片制造用等静压石墨的石墨化炉进料机构
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Application No.: CN202311642082.5Application Date: 2023-12-04
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Publication No.: CN117346541APublication Date: 2024-01-05
- Inventor: 吕尊华 , 纪斌 , 冯于驰
- Applicant: 福建福碳新材料科技有限公司
- Applicant Address: 福建省三明市永安市贡川水东园区15-1号
- Assignee: 福建福碳新材料科技有限公司
- Current Assignee: 福建福碳新材料科技有限公司
- Current Assignee Address: 福建省三明市永安市贡川水东园区15-1号
- Agency: 常州市天龙专利事务所有限公司
- Agent 于雅洁
- Main IPC: F27D3/00
- IPC: F27D3/00

Abstract:
本发明涉及石墨化炉技术领域,尤其是一种半导体大硅片制造用等静压石墨的石墨化炉进料机构,包括石墨化炉,所述石墨化炉一侧设置有楼梯,且所述石墨化炉顶端一侧设置有电控转动支架,且所述电控转动支架呈倒L型设置,所述电控转动支架顶端固定安装有进料驱动机构,所述进料驱动机构设置于起吊连接机构上方,且所述进料驱动机构与起吊连接机构通过绳索连接,且所述起吊连接机构底端挂接有盛料架,所述起吊连接机构圆周侧壁上设置有横杆,本发明在进料时,通过稳定限位机构的设置,能够提高盛料架进料时的稳定性和进料位置的准确性,同时在完成进料后,其起吊连接机构能够进行自动解锁,省去了人工操作的麻烦。
Public/Granted literature
- CN117346541B 一种半导体大硅片制造用等静压石墨的石墨化炉进料机构 Public/Granted day:2024-01-26
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