Invention Publication
- Patent Title: 一种抗原子氧侵蚀的累托石/聚酰亚胺复合膜的制备方法
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Application No.: CN202411237123.7Application Date: 2024-09-05
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Publication No.: CN118878890APublication Date: 2024-11-01
- Inventor: 黄传进 , 冯瑞恒 , 魏强 , 赵丽滨 , 胡宁
- Applicant: 河北工业大学
- Applicant Address: 天津市北辰区西平道5340号
- Assignee: 河北工业大学
- Current Assignee: 河北工业大学
- Current Assignee Address: 天津市北辰区西平道5340号
- Agency: 天津翰林知识产权代理事务所
- Agent 王瑞
- Main IPC: C08J5/18
- IPC: C08J5/18 ; C08L79/08 ; C08K3/34 ; C08K7/00

Abstract:
本发明公开了一种抗原子氧侵蚀的累托石/聚酰亚胺复合膜的制备方法。该方法以累托石颗粒和PVP为原料,利用球磨技术制备累托石纳米片;再以累托石纳米片和聚酰胺酸混合溶液为制膜液,利用刮涂技术制备累托石/聚酰胺酸复合膜;再对累托石/聚酰胺酸复合膜进行梯度热处理,聚酰胺酸发生交联反应生成聚酰亚胺,得到抗原子氧侵蚀的累托石/聚酰亚胺复合膜。本发明制备工艺简单,时间短,快速成型,过程可控。制备的累托石/聚酰亚胺复合膜力学性能好,具有优异的抗原子氧侵蚀性能。
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