本发明公开了一种具有腔体自净功能的半导体工艺腔体结构及其自净方法，属于半导体技术领域，该半导体工艺腔体结构在反应腔的原腔体结构基础上增加了CO2清洗模块；CO2清洗模块包括：液态CO2源、气源、混合容器及喷嘴；液态CO2源用于提供液态CO2；气源用于提供压缩空气或惰性气体；液态CO2源和气源分别通过通路A与混合容器相通；所述液态CO2与压缩空气或者惰性气体在混合容器内混合形成混有雪花状干冰颗粒的混合气体，该混合气体分别通过通路B与安装在腔壳和管路中多个喷嘴一一相通连接；该混合气体通过多个喷嘴分别喷入到腔壳和管路中；本发明能够解决反应腔内长时间跑货后累计的污垢处理费时、费人力、人工清理容易清理不干净的问题，提升机台效率。