Invention Grant
- Patent Title: 氮化铝薄膜及其制备方法
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Application No.: CN202411686672.2Application Date: 2024-11-25
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Publication No.: CN119162548BPublication Date: 2025-04-25
- Inventor: 戴文武 , 黄勇
- Applicant: 苏州晶歌半导体有限公司
- Applicant Address: 江苏省苏州市张家港经济技术开发区福新路1202号
- Assignee: 苏州晶歌半导体有限公司
- Current Assignee: 苏州晶歌半导体有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省苏州市张家港经济技术开发区福新路1202号
- Agency: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司
- Agent 武岑飞
- Main IPC: C23C14/34
- IPC: C23C14/34 ; C23C14/06

Abstract:
本发明公开了一种氮化铝薄膜的制备方法,其包括:对蓝宝石衬底的表面进行预处理,以增加所述蓝宝石衬底的表面的氧空位浓度;在经预处理后的蓝宝石衬底的表面上沉积形成氮化铝薄膜。本发明还公开了一种利用该制备方法制备得到氮化铝薄膜。本发明通过对蓝宝石衬底进行预处理,使蓝宝石衬底表面的氧空位增加,氧空位的增加会提高Al离子电导率,降低Al离子在界面的迁移势垒,促进Al离子的横向迁移,使得AlN初期倾向于进行二维生长。因此,不仅可以避免原本三维生长导致的位错及应力,同时还减少了AlN覆盖蓝宝石PSS衬底的时间,提高了量产效率。
Public/Granted literature
- CN119162548A 氮化铝薄膜及其制备方法 Public/Granted day:2024-12-20
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