本发明涉及激光二极管技术领域，提供一种激光二极管阵列侧面单向泵浦腔，包括泵浦源，用于发出泵浦光；漫反射腔体，漫反射腔体设置于泵浦源的一侧，且漫反射腔体的内侧壁包括曲面部和直斜面部，且直斜面部的中心线处开设有缝隙，缝隙作为泵浦光的入射口；且入射口与泵浦源的发光面相对；冷却管，设置于漫反射腔远离泵浦源的一侧；激光增益介质，与冷却管同轴设置且位于冷却管的内侧，激光增益介质和冷却管之间填充有冷却液。本发明通过漫反射腔体曲面部和直斜面部的设置、以及冷却管和激光增益介质位于漫反射腔远离泵浦源的一侧，能够对入射到激光增益介质的单向泵浦光进行均匀化，实现对激光增益介质单向高功率、高均匀性泵浦。