PRISM SPECTROMETER WITH MOVEABLE DETECTOR ELEMENT AND WITH COLLIMATED INPUT LIGHT
    1.
    发明申请
    PRISM SPECTROMETER WITH MOVEABLE DETECTOR ELEMENT AND WITH COLLIMATED INPUT LIGHT 审中-公开
    具有可移动检测元件的PRISM光谱仪和带有输入光的入射光

    公开(公告)号:WO2008106016A3

    公开(公告)日:2008-12-31

    申请号:PCT/US2008001962

    申请日:2008-02-14

    Abstract: An optical spectroscopy tool is provided. In one embodiment a highly efficient means by which moderate resolution spectroscopy may be performed in the vacuum ultraviolet (VUV) is described. In one embodiment the techniques can be used as a high throughput spectrometer to spatially disperse wavelengths in and around the VUV in such a manner as to generate a substantially flat field focal plane, suitable for use in combination with an array detector. Some embodiments utilize prism based spectrometers. Some embodiments utilize detector elements that may be movable and/or located within the spectrometer. In some embodiments, collimated light may be provided as an input to the spectrometer.

    Abstract translation: 提供光谱仪。 在一个实施例中,描述了可以在真空紫外线(VUV)中进行中分辨光谱的高效手段。 在一个实施例中,该技术可以用作高通量光谱仪,以便以这样的方式空间分散VUV中和周围的波长,以便产生适合与阵列检测器组合使用的基本平坦的场焦平面。 一些实施例使用基于棱镜的光谱仪。 一些实施例利用可移动和/或位于分光计内的检测器元件。 在一些实施例中,准直光可以作为光谱仪的输入提供。

    PRISM SPECTROMETER WITH MOVEABLE DETECTOR ELEMENT AND WITH COLLIMATED INPUT LIGHT
    2.
    发明申请
    PRISM SPECTROMETER WITH MOVEABLE DETECTOR ELEMENT AND WITH COLLIMATED INPUT LIGHT 审中-公开
    带可移动探测器元件和折射入射光的PRISM光谱仪

    公开(公告)号:WO2008106016A2

    公开(公告)日:2008-09-04

    申请号:PCT/US2008/001962

    申请日:2008-02-14

    Abstract: An optical spectroscopy tool is provided. In one embodiment a highly efficient means by which moderate resolution spectroscopy may be performed in the vacuum ultraviolet (VUV) is described. In one embodiment the techniques can be used as a high throughput spectrometer to spatially disperse wavelengths in and around the VUV in such a manner as to generate a substantially flat field focal plane, suitable for use in combination with an array detector. Some embodiments utilize prism based spectrometers. Some embodiments utilize detector elements that may be movable and/or located within the spectrometer. In some embodiments, collimated light may be provided as an input to the spectrometer.

    Abstract translation: 提供了一种光学光谱学工具。 在一个实施例中,描述了可以在真空紫外(VUV)中执行中等分辨率光谱学的高效手段。 在一个实施例中,可以将这些技术用作高通量光谱仪,以便以产生适合与阵列检测器结合使用的基本上平坦的场焦平面的方式空间分散VUV中和其周围的波长。 一些实施例使用基于棱镜的光谱仪。 一些实施例利用可移动和/或位于光谱仪内的检测器元件。 在一些实施例中,可以将准直光提供为光谱仪的输入。

    METHOD AND APPARATUS FOR ACCURATE CALIBRATION OF A REFLECTOMETER BY USING A RELATIVE REFLECTANCE MEASUREMENT
    3.
    发明申请
    METHOD AND APPARATUS FOR ACCURATE CALIBRATION OF A REFLECTOMETER BY USING A RELATIVE REFLECTANCE MEASUREMENT 审中-公开
    使用相对反射测量精确校准反射计的方法和装置

    公开(公告)号:WO2007130295A2

    公开(公告)日:2007-11-15

    申请号:PCT/US2007/010003

    申请日:2007-04-25

    CPC classification number: G01N21/274 G01N21/33 G01N21/9501

    Abstract: A reflectometer calibration technique is provided that may include the use of two calibration samples in the calibration process. Further, the technique allows for calibration even in the presence of variations between the actual and assumed properties of at least one or more of the calibration samples. In addition, the technique utilizes a ratio of the measurements from the first and second calibration samples to determine the actual properties of at least one of the calibration samples. The ratio may be a ratio of the intensity reflected from the first and second calibration samples. The samples may exhibit relatively different reflective properties at the desired wavelengths. In such a technique the reflectance data of each sample may then be considered relatively decoupled from the other and actual properties of one or more of the calibration samples may be calculated. The determined actual properties may then be utilized to assist calibration of the reflectometer.

    Abstract translation: 提供的反射计校准技术可以包括在校准过程中使用两个校准样品。 此外,即使存在至少一个或多个校准样品的实际和假设性质之间的变化,该技术也允许校准。 此外,该技术利用来自第一和第二校准样本的测量值的比率来确定至少一个校准样本的实际特性。 该比率可以是从第一和第二校准样品反射的强度的比率。 样品可以在期望的波长处表现出相对不同的反射性质。 在这种技术中,可以将每个样本的反射率数据视为与其他样本相对去耦,并且可以计算一个或多个校准样本的实际特性。 然后可以使用确定的实际特性来辅助反射计的校准。

    CONTAMINATION MONITORING AND CONTROL TECHNIQUES FOR USE WITH AN OPTICAL METROLOGY INSTRUMENT
    4.
    发明申请
    CONTAMINATION MONITORING AND CONTROL TECHNIQUES FOR USE WITH AN OPTICAL METROLOGY INSTRUMENT 审中-公开
    用光学仪器仪器使用的污染监测和控制技术

    公开(公告)号:WO2007126612A2

    公开(公告)日:2007-11-08

    申请号:PCT/US2007/006765

    申请日:2007-03-19

    CPC classification number: G02B27/0006 G01N21/33

    Abstract: A technique is provided for generating and subsequently monitoring the controlled environment(s) within an optical metrology instrument in such a manner as to minimize absorbing species within the light path of the metrology instrument and to minimize the build-up of contaminants on the surfaces of optical elements that may result in performance degradation. Both evacuation and backfill techniques may be utilized together along with a monitoring technique to determine if the environmental is suitable for measurements or if the environment should be regenerated. The optical metrology instrument may be an instrument which operates at wavelengths that include vacuum ultra-violet (VUV) wavelengths.

    Abstract translation: 提供了一种技术,用于产生和随后监测光学测量仪器内的受控环境,使得最小化测量仪器的光路内的吸收物质的最小化,并使污染物在表面上的积聚最小化 可能导致性能下降的光学元件。 撤离和回填技术都可以与监测技术一起使用,以确定环境是否适合于测量或者是否应该再生环境。 光学测量仪器可以是在包括真空紫外(VUV)波长的波长下操作的仪器。

    利用相對反射率量測精確校準反射計之方法和裝置 METHOD AND APPARATUS FOR ACCURATE CALIBRATION OF A REFLECTOMETER BY USING A RELATIVE REFLECTANCE MEASUREMENT
    5.
    发明专利
    利用相對反射率量測精確校準反射計之方法和裝置 METHOD AND APPARATUS FOR ACCURATE CALIBRATION OF A REFLECTOMETER BY USING A RELATIVE REFLECTANCE MEASUREMENT 审中-公开
    利用相对反射率量测精确校准反射计之方法和设备 METHOD AND APPARATUS FOR ACCURATE CALIBRATION OF A REFLECTOMETER BY USING A RELATIVE REFLECTANCE MEASUREMENT

    公开(公告)号:TW200809180A

    公开(公告)日:2008-02-16

    申请号:TW096115902

    申请日:2007-05-04

    IPC: G01N

    Abstract: 本發明提供一種反射計校準技術,該技術可包括在校準過程中利用兩個校準樣本。另外,即使在該等校準樣本中之至少一或多者的實際特性與假設特性之間存在變化的情況下,該技術仍允許校準。另外,該技術使用來自第一校準樣本之量測與來自第二校準樣本之量測的一比率來確定該等校準樣本中之至少一者的實際特性。該比率可為自該第一校準樣本及該第二校準樣本反射之强度的一比率。樣本可在所要波長處展示出相對不同的反射特性。在此技術中,接著,可認為每一樣本之反射率資料已自另一者相對去耦合,且可計算該等校準樣本中之一或多者的實際特性。接著,可使用經確定之實際特性來輔助校準反射計。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种反射计校准技术,该技术可包括在校准过程中利用两个校准样本。另外,即使在该等校准样本中之至少一或多者的实际特性与假设特性之间存在变化的情况下,该技术仍允许校准。另外,该技术使用来自第一校准样本之量测与来自第二校准样本之量测的一比率来确定该等校准样本中之至少一者的实际特性。该比率可为自该第一校准样本及该第二校准样本反射之强度的一比率。样本可在所要波长处展示出相对不同的反射特性。在此技术中,接着,可认为每一样本之反射率数据已自另一者相对去耦合,且可计算该等校准样本中之一或多者的实际特性。接着,可使用经确定之实际特性来辅助校准反射计。

    具有可移動偵測元件及具有準直輸入光束之稜鏡光譜儀 PRISM SPECTROMETER WITH MOVEABLE DETECTOR ELEMENT AND WITH COLLIMATED INPUT LIGHT
    6.
    发明专利
    具有可移動偵測元件及具有準直輸入光束之稜鏡光譜儀 PRISM SPECTROMETER WITH MOVEABLE DETECTOR ELEMENT AND WITH COLLIMATED INPUT LIGHT 审中-公开
    具有可移动侦测组件及具有准直输入光束之棱镜光谱仪 PRISM SPECTROMETER WITH MOVEABLE DETECTOR ELEMENT AND WITH COLLIMATED INPUT LIGHT

    公开(公告)号:TW200848707A

    公开(公告)日:2008-12-16

    申请号:TW097106675

    申请日:2008-02-26

    IPC: G01J

    Abstract: 本發明提供一種光譜分析工具。在一實施例中,描述一種可在真空紫外(VUV)中執行中解析度光譜分析所利用的高效構件。在一實施例中,該等技術可用作一適合與一陣列偵測器結合使用之高通量光譜儀,該高通量光譜儀用以使VUV中及周圍之波長以產生一大體上平場焦平面之方式空間色散。一些實施例利用基於稜鏡之光譜儀。一些實施例利用可移動及/或可位於該光譜儀內之偵測元件。在一些實施例中,可提供準直光作為至該光譜儀之一輸入。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种光谱分析工具。在一实施例中,描述一种可在真空紫外(VUV)中运行中分辨率光谱分析所利用的高效构件。在一实施例中,该等技术可用作一适合与一数组侦测器结合使用之高通量光谱仪,该高通量光谱仪用以使VUV中及周围之波长以产生一大体上平场焦平面之方式空间色散。一些实施例利用基于棱镜之光谱仪。一些实施例利用可移动及/或可位于该光谱仪内之侦测组件。在一些实施例中,可提供准直光作为至该光谱仪之一输入。

    使用光學度量衡設備之污染監視及控制技術 CONTAMINATION MONITORING AND CONTROL TECHNIQUES FOR USE WITH AN OPTICAL METROLOGY INSTRUMENT
    7.
    发明专利
    使用光學度量衡設備之污染監視及控制技術 CONTAMINATION MONITORING AND CONTROL TECHNIQUES FOR USE WITH AN OPTICAL METROLOGY INSTRUMENT 审中-公开
    使用光学度量衡设备之污染监视及控制技术 CONTAMINATION MONITORING AND CONTROL TECHNIQUES FOR USE WITH AN OPTICAL METROLOGY INSTRUMENT

    公开(公告)号:TW200745537A

    公开(公告)日:2007-12-16

    申请号:TW096112154

    申请日:2007-04-04

    IPC: G01N

    Abstract: 本發明提供一種以最小化一光學度量衡設備之光學路徑內之吸收物質及最小化光學元件表面上可能導致效能降級之污染物積垢的方式來在該度量衡設備內產生受控環境且隨後對其進行監視的技術。可與一監視技術一起利用抽空技術與回填技術來判定該環境是否適合量測或該環境是否應被重新產生。該光學度量衡設備可為一在包括真空紫外線(VUV)波長之波長處操作之設備。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种以最小化一光学度量衡设备之光学路径内之吸收物质及最小化光学组件表面上可能导致性能降级之污染物积垢的方式来在该度量衡设备内产生受控环境且随后对其进行监视的技术。可与一监视技术一起利用抽空技术与回填技术来判定该环境是否适合量测或该环境是否应被重新产生。该光学度量衡设备可为一在包括真空紫外线(VUV)波长之波长处操作之设备。

    METHOD AND APPARATUS FOR ACCURATE CALIBRATION OF A REFLECTOMETER BY USING A RELATIVE REFLECTANCE MEASUREMENT
    8.
    发明申请
    METHOD AND APPARATUS FOR ACCURATE CALIBRATION OF A REFLECTOMETER BY USING A RELATIVE REFLECTANCE MEASUREMENT 审中-公开
    通过使用相对反射测量精确校准反射计的方法和装置

    公开(公告)号:WO2007130295A3

    公开(公告)日:2009-02-26

    申请号:PCT/US2007010003

    申请日:2007-04-25

    CPC classification number: G01N21/274 G01N21/33 G01N21/9501

    Abstract: A reflectometer calibration technique is provided that may include the use of two calibration samples in the calibration process. Further, the technique allows for calibration even in the presence of variations between the actual and assumed properties of at least one or more of the calibration samples. In addition, the technique utilizes a ratio of the measurements from the first and second calibration samples to determine the actual properties of at least one of the calibration samples. The ratio may be a ratio of the intensity reflected from the first and second calibration samples. The samples may exhibit relatively different reflective properties at the desired wavelengths. In such a technique the reflectance data of each sample may then be considered relatively decoupled from the other and actual properties of one or more of the calibration samples may be calculated. The determined actual properties may then be utilized to assist calibration.

    Abstract translation: 提供的反射计校准技术可以包括在校准过程中使用两个校准样品。 此外,即使存在至少一个或多个校准样品的实际和假设性质之间的变化,该技术也允许校准。 此外,该技术利用来自第一和第二校准样本的测量值的比率来确定至少一个校准样本的实际特性。 该比率可以是从第一和第二校准样品反射的强度的比率。 样品可以在期望的波长处表现出相对不同的反射性质。 在这种技术中,可以将每个样品的反射率数据视为与其它样品相对去耦,并且可以计算一个或多个校准样品的实际性质。 然后可以使用确定的实际属性来辅助校准。

    VACUUM ULTRAVIOLET REFERENCING REFLECTOMETER
    9.
    发明申请
    VACUUM ULTRAVIOLET REFERENCING REFLECTOMETER 审中-公开
    真空超声波参考反射计

    公开(公告)号:WO2005031315A1

    公开(公告)日:2005-04-07

    申请号:PCT/US2004/030859

    申请日:2004-09-21

    Abstract: A spectroscopy system (500) is provided which operates in the vacuum ultra-violet spectrum. More particularly, a system utilizing reflectometry techniques in the vacuum ultraviolet spectrum is provided for use in metrology applications. To ensure accurate and repeatable measurement, the environment of the optical paths (506, 508) is controlled to limit absorption effects of gases that may be present in the optical path. To account for absorption effects that may still occur, the length of the optical path is minimized. To further account for absorption effects, the reflectance data may be referenced to a relative standard.

    Abstract translation: 提供了在真空紫外光谱中操作的光谱系统(500)。 更具体地,提供了在真空紫外光谱中利用反射测量技术的系统用于计量学应用。 为了确保精确和可重复的测量,控制光路(506,508)的环境以限制可能存在于光路中的气体的吸收效应。 为了考虑可能仍然发生的吸收效应,光路的长度被最小化。 为了进一步考虑吸收效应,反射率数据可以参考相对标准。

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