作为光学材料的受阻胺稳定型UV活性有机钯催化聚环烯烃组合物

    公开(公告)号:CN116096760B

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202180058610.5

    申请日:2021-06-24

    Abstract: 根据本发明的实施方式包括一种组合物,其包含:有机钯化合物、光酸产生剂、光敏剂、1种以上的烯烃单体及受阻胺等稳定剂,上述组合物在曝光于合适的光化辐射下时,进行乙烯基加成聚合以形成实质上透明的膜。本发明的组合物在室温下稳定数天至数月,也能够在40℃~60℃的高温下保存数天,并且仅在曝光于合适的光化辐射下时进行本体聚合。用于本发明的单体具有各种光学及机械性质,因此这些组合物能够被调整为形成具有各种光电性质的膜。因此,本发明的组合物可以在包括涂料、密封剂、填料、调平剂、密封剂、粘合剂等的各种应用中使用。

    具有改进的成膜特性的乙烯基加成聚合物形成用钯催化剂

    公开(公告)号:CN119137161A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202380032327.4

    申请日:2023-04-05

    Abstract: 本说明书中记载的一系列钯化合物为优异的乙烯基加成聚合催化剂。具体而言,本说明书中记载的通式(I)及(II)的化合物在各种环烯烃单体的乙烯基加成聚合中出乎意料地显示出远高于本领域中已知的化合物的反应性,因此能够形成分子量极高的聚合物。本说明书还公开了各种固体三维物件的形成方法,例如通过使用极低量的本说明书中记载的通式(I)或(II)的钯化合物,对各种环烯烃单体的乙烯基加成聚合形成的聚合物溶液进行的溶液挤压。由聚合性组合物形成的聚合物膜显示出前所未有的特性,例如优异的透明特性、更高的热及机械特性,以及其他改进的特性。因此,如此形成的膜可用于各种光电应用。#imgabs0#

    作为光学材料的聚烯烃聚合物组合物

    公开(公告)号:CN107922549B

    公开(公告)日:2019-07-26

    申请号:CN201680050563.9

    申请日:2016-09-01

    Abstract: 根据本发明的实施方式包括包含组分A和组分B的组合物,组分A和组分B分别含有主催化剂和活化剂以及一种以上的单体,当将两种组分混合在一起以形成实质上透明的膜时,该单体进行乙烯基加成聚合。本文所采用的单体的折射率在1.4至1.8的范围,因此能够将这些组合物调整而形成不同折射率的透明膜。因此,本发明的组合物在包括如涂层剂、密封剂、填料、流平剂等的各种光电子应用中有用。

    热特性改良型低损耗膜用多环烯烃组合物

    公开(公告)号:CN116368165A

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202180074527.7

    申请日:2021-10-29

    Abstract: 根据本发明的实施方式涉及一种组合物,其含有一种以上的多环烯烃单体及至少一种多官能烯烃单体,所述组合物会在合适的温度进行本体聚合以提供一种三维绝缘产品,该产品显示出至今未能实现的低介电常数、低损耗特性及极高的热特性。本发明的组合物可以进一步含有一种以上的有机或无机填充材料,该材料除了提供极低的介电特性以外,还提供改良的热机械特性。所述组合物在室温下稳定且仅在合适的高温下(例如通常在高于100℃的温度下)进行本体聚合。本发明的组合物可用于各种应用中,包括在毫米波雷达天线中作为绝缘材料等。

    衍生自降冰片二烯和马来酸酐的聚合物及其用途

    公开(公告)号:CN108473749B

    公开(公告)日:2019-11-26

    申请号:CN201680076530.1

    申请日:2016-12-30

    Abstract: 本发明公开了包括含有降冰片二烯和马来酸酐单体的聚合物且可用于形成各种可光图案化结构的一系列组合物的实施方式并对其主张权益。所述组合物可用作永久性介电材料。更具体而言,本发明公开包括含有各种降冰片二烯、马来酸酐、马来酰亚胺及降冰片烯型环烯烃单体的一系列三元和四元聚合物以及光活性化合物的组合物的实施方式,其中马来酸酐的全部或局部水解,即开环且全部或局部酯化,本发明的组合物可用于形成在各种电子材料应用等各种其他用途中有用的永久性介电材料。

    负型感光性组合物
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109313388B

    公开(公告)日:2022-06-21

    申请号:CN201780037257.6

    申请日:2017-06-13

    Inventor: L·F·罗德

    Abstract: 包含含有酸性侧基的聚合物的各种组合物与一个以上的反应性烯属化合物和光产酸剂组合来形成可自成像负型薄膜。此类聚合物的例子包括包含具有酸性侧基的降冰片烯型重复单元的聚合物和共聚物、开环马来酸酐聚合物、聚丙烯酸、聚羟基苯乙烯聚合物等。由此类组合物形成的薄膜提供用于微电子器件、光电子器件及其他应用中的可自成像、低k及热稳定的层。

Patent Agency Ranking