公开(公告)号：CN1148396C

公开(公告)日：2004-05-05

申请号：CN98808918.1

申请日：1998-09-03

Applicant: 住友电木株式会社

Inventor： L·F·罗迪斯 ,  A·贝尔 ,  S·扎亚拉曼 ,  J-H·利比亚恩 ,  B·L·古达尔 ,  R·A·施克

IPC: C08G61/08 ,  G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08G61/08 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

Abstract: 本发明涉及包含光致酸引发剂和多环聚合物的辐射敏感性光刻胶组合物，所述多环聚合物的重复单元包含酸不稳定侧基。通过暴露于成像辐射源，该光致酸引发剂产生一种能够将酸不稳定侧基开裂的酸，从而改变了聚合物的极性。这种聚合物在暴露于成像源的区域中可溶于碱水溶液。