公开(公告)号：CN102892746A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201180024123.3

申请日：2011-04-05

Applicant: 普罗米鲁斯有限责任公司 ,  住友电木株式会社

Inventor： P·坎达纳拉什切 ,  藤田一义 ,  S·史密斯 ,  L·F·罗迪斯

IPC: C07C205/03 ,  C08F24/00 ,  C08F28/06 ,  C08F32/00 ,  C08F232/08 ,  C08G61/08 ,  G03C5/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/11 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

Abstract: 根据本发明的实施方案提供了用于浸入式光刻方法的非自可成像降冰片烯型聚合物，制备这样的聚合物的方法，使用这样的聚合物的组合物和利用这样的组合物的浸入式光刻方法。更具体地，本发明的实施方案涉及用于在浸入式光刻方法中形成覆盖光刻胶层的顶部涂层的降冰片烯型聚合物及其方法。

公开(公告)号：CN1223615C

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN99803249.2

申请日：1999-02-19

Applicant: 住友电木株式会社 ,  国际商业机器公司

Inventor： S·杰雅拉曼 ,  B·L·谷德戴尔 ,  L·F·罗迪斯 ,  R·A·西克 ,  R·维卡里 ,  R·D·艾伦 ,  J·欧皮兹 ,  R·苏利亚库马兰 ,  T·瓦罗

IPC: C08F32/08 ,  C08F232/08 ,  C08G61/08 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F232/08 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/115

Abstract: 公开了含有芳香侧基单元的多环类聚合物。聚合物对远UV波长显示出光学透明性，从而能在高分辨率照相平版印刷行业中应用。这些聚合物特别适用于化学放大的正性和负性光刻胶。

公开(公告)号：CN1198181C

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：CN97193958.6

申请日：1997-03-06

Applicant: 住友电木株式会社

Inventor： B·L·古德戴尔 ,  S·扎雅拉曼 ,  R·A·希克 ,  L·F·罗迪斯

IPC: G03F7/039 ,  C08F32/08

CPC classification number: C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106

Abstract: 本发明涉及一种辐射敏感的光刻胶组合物，包括光致酸引发剂和多环聚合物，该聚合物包括含酸不稳定侧基的重复单元。经在成像辐射源下曝光后，光致酸引发剂生成使酸不稳定侧基开裂的酸，使导致聚合物极性变化。在成像源下曝光的区域中的聚合物溶于碱水溶液中。

公开(公告)号：CN1148396C

公开(公告)日：2004-05-05

申请号：CN98808918.1

申请日：1998-09-03

Applicant: 住友电木株式会社

Inventor： L·F·罗迪斯 ,  A·贝尔 ,  S·扎亚拉曼 ,  J-H·利比亚恩 ,  B·L·古达尔 ,  R·A·施克

IPC: C08G61/08 ,  G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08G61/08 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

Abstract: 本发明涉及包含光致酸引发剂和多环聚合物的辐射敏感性光刻胶组合物，所述多环聚合物的重复单元包含酸不稳定侧基。通过暴露于成像辐射源，该光致酸引发剂产生一种能够将酸不稳定侧基开裂的酸，从而改变了聚合物的极性。这种聚合物在暴露于成像源的区域中可溶于碱水溶液。