放大偏移校正方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117794669A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202280055740.8

    申请日:2022-06-14

    Abstract: 提供一种用于对装置中的激光束的位置进行校准的方法,该装置包括用于引导激光束的至少一个光学单元。至少一个光学单元包括多个光学元件。该方法包括:对至少一个光学单元的多个光学元件设置第一光学配置,从而以第一焦斑尺寸将激光束引导到测量平面上;测量使用第一光学配置生成的激光束在测量平面内的第一位置;对至少一个光学单元的多个光学元件设置第二光学配置,从而以第二焦斑尺寸将激光束引导到测量平面上,第二焦斑尺寸不同于第一焦斑尺寸;测量使用第二光学配置生成的激光束在测量平面内的第二位置;以及基于所测量的第一位置和所测量的第二位置,确定至少一个校正值。

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