公开(公告)号：CN112930313B

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN201980071140.9

申请日：2019-10-30

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 青木胜志 ,  时田裕次郎

IPC: B65G47/19 ,  B65G11/00

Abstract: 本发明提供一种能够控制含有形状及比重不同的物质的原料的落下位置的原料供给装置、电子/电气设备部件屑的处理装置及使用它们的电子/电气设备部件屑的处理方法。本发明的原料供给装置(4)具备将原料(100)向预先决定的位置供给的收容部(41)，且具备：接收口(43)，其在收容部(41)的上表面具备用于接收原料(100)的第一开口(433)；排出口(42)，其在收容部(41)的底面具备第二开口(422)，第二开口(422)用于排出原料(100)且具有比第一开口(433)小的截面积；第一引导面(412)，其在收容部(41)的侧面前方以与向搬运机构(2)的前方被投下的原料(100)接触并将原料(100)向下方引导的方式，从接收口(43)穿出排出口(42)而沿垂直方向延伸；以及第二引导面(411)，其在收容部(41)的侧面的与第一引导面(412)对置的面具备与排出口(42)连续且相对于水平面倾斜的倾斜面(411a)，第一引导面(412)以使第一引导面(412)的最下端部位于比沿第二引导面(411)的倾斜方向延长的延长线与第一引导面(412)的交点(P)靠下方的位置的方式延伸。

公开(公告)号：CN110079827B

公开(公告)日：2021-10-15

申请号：CN201811463689.6

申请日：2015-12-03

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 时田裕次郎 ,  笹冈英俊

IPC: C25C1/18

Abstract: 本发明的课题在于：在基于氨基磺酸浴的铅的电解纯化中，抑制白色残渣的生成，并抑制电解液中铅浓度的降低。其解决方案是，基于氨基磺酸浴的铅的电解纯化方法，其中，将氨基磺酸的分解率控制在0.06%/天以下而进行电解纯化。

公开(公告)号：CN112930313A

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN201980071140.9

申请日：2019-10-30

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 青木胜志 ,  时田裕次郎

IPC: B65G47/19 ,  B65G11/00

Abstract: 本发明提供一种能够控制含有形状及比重不同的物质的原料的落下位置的原料供给装置、电子/电气设备部件屑的处理装置及使用它们的电子/电气设备部件屑的处理方法。本发明的原料供给装置(4)具备将原料(100)向预先决定的位置供给的收容部(41)，且具备：接收口(43)，其在收容部(41)的上表面具备用于接收原料(100)的第一开口(433)；排出口(42)，其在收容部(41)的底面具备第二开口(422)，第二开口(422)用于排出原料(100)且具有比第一开口(433)小的截面积；第一引导面(412)，其在收容部(41)的侧面前方以与向搬运机构(2)的前方被投下的原料(100)接触并将原料(100)向下方引导的方式，从接收口(43)穿出排出口(42)而沿垂直方向延伸；以及第二引导面(411)，其在收容部(41)的侧面的与第一引导面(412)对置的面具备与排出口(42)连续且相对于水平面倾斜的倾斜面(411a)，第一引导面(412)以使第一引导面(412)的最下端部位于比沿第二引导面(411)的倾斜方向延长的延长线与第一引导面(412)的交点(P)靠下方的位置的方式延伸。