半导体装置用薄膜
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102029655A

    公开(公告)日:2011-04-27

    申请号:CN201010297302.1

    申请日:2010-09-28

    CPC classification number: H01L21/67132 Y10T428/14

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置用薄膜及使用该半导体装置用薄膜而得到的半导体装置,所述半导体装置用薄膜即使在低温状态下输送或长时间保存后,也可以防止各薄膜间的界面剥离或薄膜翘起现象、以及胶粘薄膜向覆盖薄膜的转印。一种半导体装置用薄膜,在切割薄膜上依次层叠有胶粘薄膜和覆盖薄膜,其中,在温度23±2℃、剥离速度300mm/分钟的条件下的T形剥离试验中,所述胶粘薄膜与所述覆盖薄膜之间的剥离力F1在0.025~0.075N/100mm的范围内,所述胶粘薄膜与所述切割薄膜之间的剥离力F2在0.08~10N/100mm的范围内,并且所述F1与所述F2满足F1<F2的关系。

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