公开(公告)号：CN101208774B

公开(公告)日：2011-07-06

申请号：CN200680023201.7

申请日：2006-05-29

Applicant: 普林斯顿大学

Inventor： 斯蒂文·Y·舒 ,  夏强飞

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/477 ,  H01L21/46 ,  H01L21/4757

CPC classification number: B81C1/00111 ,  B81C1/00634 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/76892 ,  H01L21/76894 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/90

Abstract: 根据本发明，图样化的纳米级或近纳米级的器件(纳米结构)的结构，通过在适当的引导条件下将图样化的器件液化一段时间并之后将器件固化而进行修复和/或增强。有利的引导条件包括邻近且分离于表面或接触表面以控制表面结构并保持竖直。无约束边界使边缘粗糙变得平滑。在优选实施例中，平坦表面设置为覆盖在图样化的纳米结构表面上，并且，此表面通过高强度光源液化以修复或增强纳米特征。

公开(公告)号：CN101208774A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200680023201.7

申请日：2006-05-29

Applicant: 普林斯顿大学

Inventor： 斯蒂文·Y·舒 ,  夏强飞

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/477 ,  H01L21/46 ,  H01L21/4757

CPC classification number: B81C1/00111 ,  B81C1/00634 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/76892 ,  H01L21/76894 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/90

Abstract: 根据本发明，图样化的纳米级或近纳米级的器件(纳米结构)的结构，通过在适当的引导条件下将图样化的器件液化一段时间并之后将器件固化而进行修复和/或增强。有利的引导条件包括邻近且分离于表面或接触表面以控制表面结构并保持竖直。无约束边界使边缘粗糙变得平滑。在优选实施例中，平坦表面设置为覆盖在图样化的纳米结构表面上，并且，此表面通过高强度光源液化以修复或增强纳米特征。