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公开(公告)号：CN117501156A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202280042297.0
申请日：2022-06-02
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明的衍射光栅的制造方法和复制衍射光栅的制造方法中，首先，准备在其表面(FS1)上具有图案(1b)的晶片(1a)，该图案(1b)形成凹部和凸部交替配置的形状。接下来，在晶片(1a)的表面(FS1)上形成金属膜(3)，在金属膜(3)的表面(FS2)的一部分上形成转印有图案(1b)的形状的转印区域(3a)。接下来，从晶片(1a)上去除金属膜(3)。接下来，将金属膜(3)的背面BS2通过粘接剂(4)粘接到玻璃制基板(5)上。由此，制造衍射光栅(7)。
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公开(公告)号：CN105074512A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480013530.8
申请日：2014-01-30
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: G02B5/1852 , G01N21/31 , G02B1/04 , G02B5/1814 , G02B5/1857 , G02B5/1861
Abstract: 本发明提供一种制作高精度衍射光栅的技术，能够通过使在硅基板上使用半导体工艺制作的平面衍射光栅沿曲面基板塑性变形，制造具有所希望的曲率的曲面衍射光栅。其特征为：将使用半导体工艺制作的硅制平面衍射光栅转印至非晶质材料，并将非晶质材料基板曲面化，安装在曲面固定基板上，得到具有抑制转位线的产生的结晶性材料的曲面衍射光栅。
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公开(公告)号：CN114174872A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080054621.1
申请日：2020-02-21
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明的衍射光栅的制造方法提高衍射光栅的性能。准备包括基板(7)、和具有由多个槽(GR1)构成的表面形状的抗蚀剂图案(6b)的成型构件(8)。多个槽(GR1)包括多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)，多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)在X方向上交替重复，并且分别在Y方向上延伸。另外，彼此相邻的底部(BP1)的间隔阶段性地变化。接下来，在抗蚀剂图案(6b)的表面上形成金属膜(9)，以覆盖多个槽(GR1)，然后从成型构件(8)剥离金属膜(9)。由此，形成具有与抗蚀剂图案(6b)的表面形状相反的表面形状的金属膜(9)。金属膜(9)的多个顶部(TP2)和多个底部(BP2)分别对应于抗蚀剂图案(6b)的多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)。能使用这种金属膜(9)形成锯齿形状的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN111095043A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880059819.1
申请日：2018-11-07
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 能够容易地、高精度地将衍射光栅的沟槽图案的沟槽周期与凸面固定基板的位置进行对准。为此，将形成于平面衍射光栅(101)的、具有不等间隔的沟槽周期的沟槽图案(103)转印至金属薄膜(105)，在具有固定金属薄膜(105)的凸面的固定基板(108)的凸面上形成第一位置对准标记(109)，将形成于金属薄膜(105)的粘接面的第二位置对准标记(106)与第一位置对准标记(109)进行重合，由此进行位置对准，将金属薄膜的粘接面与固定基板的凸面进行粘接来制备母版(110)，转印母版(110)的金属薄膜的沟槽图案，由此来制备凹面衍射光栅。
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公开(公告)号：CN104335082A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201380029764.7
申请日：2013-06-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: G02B5/1847 , B29C59/02 , B32B37/12 , B32B37/24 , B32B38/0012 , B32B2551/00 , G02B5/18 , G02B5/1814 , G02B5/1852 , Y10T156/1028
Abstract: 本发明提供高精度地制成具有所希望的曲率的曲面衍射光栅。一种曲面衍射光栅的制造方法，具有：在平板状的硅基板(2)上形成衍射光栅图案(20)的步骤；在加热的状态下向形成有上述衍射光栅图案的硅基板(2)按压具有所希望的曲面形状的固定基板(3)而使上述硅基板曲面化，并且在具有上述曲面形状的固定基板(3)上固定具有上述衍射图案的硅基板(2)来制作曲面衍射光栅的模具(1)的步骤；以及使具有柔软性的部件与上述曲面衍射光栅的模具接触来在该部件上转印衍射光栅图案的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115004065B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202180010423.X
申请日：2021-01-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明提供凹面衍射光栅和使用了该凹面衍射光栅的光学装置，该凹面衍射光栅能够防止反射膜因温度的影响而变形且能够防止由温度导致的光学特性的降低。本发明的凹面衍射光栅具备：反射膜(22)，其具备多个光栅槽(21)；保持膜(25)，其由金属构成，且在一方的面设有反射膜(22)；凹面基板(24)，其具备凹面(24a)；以及固定层(23)，其设于凹面(24a)与保持膜(25)的另一方的面之间，将保持膜(25)和反射膜(22)固定于凹面基板(24)。
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公开(公告)号：CN103998984A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201280048495.4
申请日：2012-09-13
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F1/26 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/3065 , G03F1/0046 , G03F1/26 , G03F1/28 , G03F1/30 , H01L21/3085
Abstract: 提供一种可提高产品的精度以及缩短制作时间的、利用了相移掩模的非对称图案的形成技术、以及衍射光栅、半导体装置的制造技术。在利用了相移掩模(30)(周期性地配置遮光部和透过部(没有相移的第1透过部、有相移的第2透过部))的衍射光栅的制造方法中，使从照明光源(10)射出的光透过相移掩模(30)，使透过该相移掩模(30)而产生的0次光和+1次光在Si晶片(50)的表面产生干涉，使该Si晶片(50)的表面的光致抗蚀剂(60)曝光，在Si晶片(50)上形成具有闪耀状的截面形状的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN103221802A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201180054895.1
申请日：2011-11-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: G01J3/42 , G01J3/0218 , G01J3/28 , G01J2003/2866 , G01N21/05 , G01N21/3151
Abstract: 在单光束方式的分光光度计，即使光源的光量随时间变动，也能得到高S/N且能长时间抑制漂移的高稳定透过光谱及吸收光谱。分光光度计具备：光源；试样池；多色仪，其通过将来自上述光源的光中的透过上述试样池内的试样的光分光为多个波长成分，来生成上述试样的透过光谱；图像传感器，其检测上述试样的透过光谱；光源监视用光检测器，其检测来自上述光源的光中的没有透过上述试样池的光；以及运算部，其使用上述光源监视用光检测器的输出信号修正上述试样的透过光谱。
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公开(公告)号：CN114174872B
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202080054621.1
申请日：2020-02-21
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明的衍射光栅的制造方法提高衍射光栅的性能。准备包括基板(7)、和具有由多个槽(GR1)构成的表面形状的抗蚀剂图案(6b)的成型构件(8)。多个槽(GR1)包括多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)，多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)在X方向上交替重复，并且分别在Y方向上延伸。另外，彼此相邻的底部(BP1)的间隔阶段性地变化。接下来，在抗蚀剂图案(6b)的表面上形成金属膜(9)，以覆盖多个槽(GR1)，然后从成型构件(8)剥离金属膜(9)。由此，形成具有与抗蚀剂图案(6b)的表面形状相反的表面形状的金属膜(9)。金属膜(9)的多个顶部(TP2)和多个底部(BP2)分别对应于抗蚀剂图案(6b)的多个底部(BP1)和多个顶部(TP1)。能使用这种金属膜(9)形成锯齿形状的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN111095043B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN201880059819.1
申请日：2018-11-07
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 能够容易地、高精度地将衍射光栅的沟槽图案的沟槽周期与凸面固定基板的位置进行对准。为此，将形成于平面衍射光栅(101)的、具有不等间隔的沟槽周期的沟槽图案(103)转印至金属薄膜(105)，在具有固定金属薄膜(105)的凸面的固定基板(108)的凸面上形成第一位置对准标记(109)，将形成于金属薄膜(105)的粘接面的第二位置对准标记(106)与第一位置对准标记(109)进行重合，由此进行位置对准，将金属薄膜的粘接面与固定基板的凸面进行粘接来制备母版(110)，转印母版(110)的金属薄膜的沟槽图案，由此来制备凹面衍射光栅。
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