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公开(公告)号：CN111164146B
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN201880064036.2
申请日：2018-10-29
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08L33/14 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F212/14 , C08F230/02 , B32B27/28 , H01L21/027 , H01L21/324
Abstract: 本申请涉及钉扎组合物、包含其的层合体及其生产方法。本申请的钉扎组合物可以赋予包含嵌段共聚物的自组装结构的聚合物膜定向性和定位选择特性。本申请的钉扎组合物表现出优异的反应选择性，由此其可以形成具有高配向程度的垂直层状体结构。此外，本申请的钉扎组合物可以适合于应用于低温过程。
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公开(公告)号：CN109906237B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201780068358.X
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F220/18 , C08F212/04 , C08F212/14 , C08F220/44 , C08F220/38 , C08J5/22 , H01L21/027 , H01L21/311 , G03F1/00
Abstract: 本申请可以提供嵌段共聚物及其用途。本申请的嵌段共聚物具有优异的自组装特性或相分离特性，其也可以被自由地赋予所需要的各种功能。
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公开(公告)号：CN107077066B9
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201580059713.8
申请日：2015-09-30
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G03F7/00 , C07C43/215 , C07C43/225 , C07C217/84 , C07D209/48 , C07F7/18 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/26 , C08F12/32 , C08F212/14 , C08F220/10 , C08F220/30 , C08F293/00 , C08F297/00 , C08F299/00 , C08J5/18 , C08L53/00 , C08L55/00
Abstract: 提供了制造图案化基底的方法。该方法可以应用于装置如电子器件或集成电路的制造过程，或者应用于另一些用途例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、LCD、薄膜磁头或有机发光二极管；并且该方法可用于在用来制造离散磁道介质如集成电路、位元图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的表面上构造图案。
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公开(公告)号：CN107078026B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201580059699.1
申请日：2015-09-30
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: H01L21/027 , C08F299/00 , C08F297/00 , C08F212/14 , C08F212/08 , C08F216/12
Abstract: 本申请提供了制造图案化基底的方法。该方法可以应用于制造装置如电子器件或集成电路的过程，或者应用于其他用途例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、LCD、薄膜磁头或有机发光二极管；并且该方法可用于在用来制造离散磁道介质如集成电路、位元图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的表面上构造图案。
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公开(公告)号：CN107075028A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580059710.4
申请日：2015-09-30
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F212/08 , C08F220/10 , C08F297/00 , C08F299/00 , C08J5/18 , C08L53/00 , G03F7/00
Abstract: 本申请提供了嵌段共聚物及其用途。本申请的嵌段共聚物表现出优异的自组装特性或相分离特性，并且可以没有限制地提供多种所需功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110869442B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN201880046248.8
申请日：2018-07-16
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本申请涉及中性层组合物。本申请可以提供能够形成可以有效地控制各种嵌段共聚物的取向特性的中性层的中性层组合物。
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公开(公告)号：CN109996840B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201780071946.9
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C09D153/00 , C08F293/00 , H01L21/027 , H01L21/311 , G03F1/00
Abstract: 本申请涉及聚合物组合物及其用途。本申请可以提供具有优异的自组装特性并且即使在未进行中性处理的表面上也能够形成垂直取向结构的聚合物组合物及其用途，其中垂直取向的自组装结构可以在短时间内有效地形成。
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公开(公告)号：CN111094370A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880059350.1
申请日：2018-09-17
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F220/30 , C08F212/14 , B32B27/28 , B32B27/08 , B29C71/02
Abstract: 本申请涉及用于制备图案化基底的方法。所述方法可以应用于制造诸如电子装置和集成电路的装置的过程，或者其他应用，例如集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头或有机发光二极管等的制造，并且还可以用于诸如集成电路、比特图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的离散轨道介质的制造用于在表面上构建图案。
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