公开(公告)号：KR101832249B1

公开(公告)日：2018-02-26

申请号：KR1020110082320

申请日：2011-08-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사사키야스하루 ,  기쿠치에이이치로 ,  마츠자키카즈요시

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: (과제) 설치스페이스가적어도되고, 장치구성을간소화할수 있는온도조절수단을구비한기판처리장치를제공한다. (해결수단) 기판에플라즈마처리를행하는챔버(11)와, 챔버(11) 내에서, 기판을올려놓는서셉터(susceptor; 12)와, 서셉터(12)와처리공간(S)을사이에두고대향하도록설치된샤워헤드(shower head; 14)와, 처리공간(S)에고주파전력을인가하여플라즈마를발생시키는고주파전원(15)과, 온도조절면으로서의서셉터(12)의표면(12a)의이면(12b)에물의젖음면을형성하는물 분사장치(16)와, 물의젖음면을주위의분위기로부터격리하는증발실(17)과, 증발실(17) 내의압력을조정하는압력조정장치(18, 19)를구비한기판처리장치에있어서, 압력조정장치(18, 19)에의해증발실(17) 내의압력을조정하여젖음면을형성하는물을증발시켜, 물의증발잠열을이용하여서셉터(12)의표면(12a)의온도를제어한다.

Abstract translation: 提供一种具有温度调节单元的基板处理装置，该温度调节单元能够使设置空间最小化，并且能够简化装置结构。 用于将基板放置在腔室11中的基座12以及基座12和处理空间S被放置在腔室11中， 高频电源15，用于通过向处理空间S施加高频电力来产生等离子体;以及高频电源15，用于在作为温度调节表面的基座12的表面12a上产生等离子体， 用于在蒸发室17的后表面12b上形成水的湿表面的水喷射装置16，用于将水的湿表面与周围大气隔离的蒸发室17， 18,19）中，通过压力调节装置（18,19）调节蒸发室（17）中的压力以蒸发形成润湿表面的水， 基板12的表面12a的温度受到控制。

公开(公告)号：KR1020120018089A

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：KR1020110082320

申请日：2011-08-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사사키야스하루 ,  기쿠치에이이치로 ,  마츠자키카즈요시

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: PURPOSE: A substrate processing device and a temperature controlling method are provided to efficiently control a temperature of a temperature control surface of a component member in a chamber by including a temperature control unit. CONSTITUTION: A substrate is loaded on a susceptor(12) in a chamber. A shower head faces the susceptor and a process space is located between the shower head and the susceptor. A water spray device(16) forms a wet surface on the rear surface of the susceptor as a temperature control surface. An evaporation chamber separates the wet surface from a surrounding atmosphere. A pressure control device evaporates water for forming the wet surface by controlling pressure in the evaporation chamber. The temperature of the surface of the susceptor is controlled by using latent heat of the water.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置和温度控制方法，通过包括温度控制单元来有效地控制室内部件的温度控制面的温度。 构成：衬底被装载在腔室中的基座（12）上。 淋浴头面对感受器，并且处理空间位于淋浴头和感受器之间。 喷水装置（16）在基座的后表面上形成湿表面作为温度控制表面。 蒸发室将湿表面与周围的气氛分开。 压力控制装置通过控制蒸发室中的压力来蒸发用于形成湿表面的水。 通过使用潜热来控制感受器表面的温度。