公开(公告)号：KR1020050113339A

公开(公告)日：2005-12-02

申请号：KR1020040037936

申请日：2004-05-27

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 변상기 ,  김진섭 ,  강용철 ,  성용안

IPC: H03H3/02

CPC classification number: H03H3/04 ,  H03H3/02 ,  H03H9/02023 ,  H03H9/21 ,  H03H9/215

Abstract: 본 발명은 수정 진동자의 제조 방법에 관한 것으로, 수정(Crystal) 기판의 일면과 타면에 식각할 영역을 노출시키는 개구를 갖는 마스크를 형성하는 단계와; 상기 마스크가 형성된 수정 기판의 일면과 타면에 플라즈마 상태의 가스를 공급하여 상기 마스크의 개구를 통하여 노출된 수정 기판의 일면과 타면을 식각하는 단계와; 상기 마스크를 제거하고, 상기 수정 기판의 일면과 타면에 전극을 형성하는 단계로 이루어진다.
따라서, 본 발명은 수정 기판을 플라즈마 상태의 가스로 식각하여 종래의 습식 식각시 발생되는 측면 침투 식각 현상을 방지할 수 있어 기계적 강도가 우수한 안정된 구조를 형성하고, 표면 거칠기(Roughness)가 개선되어 수정 진동자의 특성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100633281B1

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：KR1020040037936

申请日：2004-05-27

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 변상기 ,  김진섭 ,  강용철 ,  성용안

IPC: H03H3/02

Abstract: 본 발명은 수정 진동자의 제조 방법에 관한 것으로, 수정(Crystal) 기판의 일면과 타면에 식각할 영역을 노출시키는 개구를 갖는 마스크를 형성하는 단계와; 상기 마스크가 형성된 수정 기판의 일면과 타면에 플라즈마 상태의 가스를 공급하여 상기 마스크의 개구를 통하여 노출된 수정 기판의 일면과 타면을 식각하는 단계와; 상기 마스크를 제거하고, 상기 수정 기판의 일면과 타면에 전극을 형성하는 단계로 이루어진다.
따라서, 본 발명은 수정 기판을 플라즈마 상태의 가스로 식각하여 종래의 습식 식각시 발생되는 측면 침투 식각 현상을 방지할 수 있어 기계적 강도가 우수한 안정된 구조를 형성하고, 표면 거칠기(Roughness)가 개선되어 수정 진동자의 특성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
수정, 진동자, 마스크, 플라즈마, 이중, 식각