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公开(公告)号：KR1019980050459A
公开(公告)日：1998-09-15
申请号：KR1019960069282
申请日：1996-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B27/58
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
리소그래피용 광학
2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
동에 공간적으로 균일한 강도를 갖는 빛으로 조명하여 이른바 레일리 한계에 의해 제한되는 선폭의 광학상을 얻으므로, 이때 최소 선폭은 균일한 조명의 경우 조명파장과 광학계의 개구수에 의해서 제한된다.
3. 발명의 해결 방법의 요지
노광장비 광학계의 동(瞳)에 여러개의 가우스 함수가 중첩된 형태의 진폭 및 위상 투과특성을 갖도록 조명광을 조작함으로써 통상적인 광학계에서 얻을 수 있는 선폭보다 미세한 선폭의 상을 얻는다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 공정
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