公开(公告)号：KR100319455B1

公开(公告)日：2002-01-05

申请号：KR1019990062273

申请日：1999-12-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  김대용

IPC: H01L21/20

CPC classification number: H01L21/02686 ,  G02B5/3083 ,  G02B7/04 ,  G02B13/143 ,  G02B26/0891 ,  G02B27/28 ,  H01L21/2026

Abstract: 본발명은엑시머레이저를광원으로사용하여무정형실리콘박막을미세줄 무늬패턴의노광으로결정화시킨실리콘박막으로만드는결정화장비용광학시스템을제공하는데그 목적이있다. 본발명에따르면, 엑시머레이저를광원으로사용하여무정형실리콘박막을미세줄 무늬패턴의노광으로결정화시킨실리콘박막으로만드는결정화장비용광학시스템에있어서, 상기엑시머레이저로부터광축방향으로순차적으로나열된제 1 렌즈내지제 10 렌즈를포함하고; 상기제 1 렌즈는양볼록렌즈이고, 상기제 2 렌즈는상기광원측방향으로볼록한볼록오목렌즈이고, 상기제 3 렌즈는상기광원측방향으로볼록한볼록오목렌즈이고, 상기제 4 렌즈는양오목렌즈이고, 상기제 5 렌즈는양볼록렌즈이고, 상기제 6 렌즈는상기광원측방향으로오목인오목볼록렌즈이고, 상기제 7 렌즈는상기광원측방향으로볼록인볼록오목렌즈이고, 상기제 8 렌즈는양볼록렌즈이고, 상기제 9 렌즈는상기광원측방향으로볼록인볼록오목렌즈이고, 상기제 10 렌즈는양볼록렌즈인것을특징으로하는결정화장비용광학시스템이제공된다.

公开(公告)号：KR1020010002724A

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR1019990022660

申请日：1999-06-17

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An off-axial aperture with a fly's eye lens and a fabricating method thereof are provided to pass a larger quantity of light through the off-axial aperture, thereby increasing a throughput and facilely fabricating the aperture. CONSTITUTION: The device comprises a light shielding area formed at a center portion; a light penetrating area formed around the light shielding area and comprised of a fly's eye lens. The aperture further comprises a partial light penetrating area formed at a portion except the light shielding area and the light penetrating area and having a lower permeability than that of the light penetrating area. In the aperture, the light penetrating area formed into a quadruple, hexapole or annular type. A method of fabricating the off-axial aperture comprises the steps of: forming a light shielding pattern on an entire surface of a transparent substrate(100); forming the first resist pattern having a curved surface at a fly's eye lens area of the substrate; and performing an etching process to form the fly's eye lens on the substrate.

Abstract translation: 目的：提供具有飞眼镜片的非轴向孔径及其制造方法，以使较大量的光通过离轴孔径，从而增加产量并便利地制造孔径。 构成：该装置包括形成在中心部分的遮光区域; 一个透光区，形成在遮光区周围，由飞眼镜片组成。 孔径还包括形成在除了遮光区域和透光区域以外的部分的透光性比透光面积低的部分光穿透区域。 在孔中，透光区形成四重六极或环形。 制造离轴孔的方法包括以下步骤：在透明基板（100）的整个表面上形成遮光图案; 在所述基板的飞眼透镜区域形成具有弯曲表面的第一抗蚀剂图案; 并进行蚀刻处理，以在基板上形成蝇眼透镜。

公开(公告)号：KR100261266B1

公开(公告)日：2000-07-01

申请号：KR1019970054787

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 ,  유형준

IPC: G02B6/27

Abstract: PURPOSE: A polarization optical splitter using an amorphous fluoric resin adhesive and a method of fabricating the same are provided by which the polarization optical splitter that places an image zone and an object zone at different locations is formed using an adhesive that is transparent at 193nm and has endurance for light irradiated on the adhesive for a long period of time. CONSTITUTION: Multi-level dielectric thin films(16,17) formed of transparent materials are coated on the sloped face of one of a pair of prisms(4,8). The thin films includes a material having a high refractive index and a material having a low refractive index. The multi-level dielectric thin films and the sloped face of the other prism are attached to each other using an amorphous fluoric resin adhesive(21), to fabricate a polarization optical splitter. The adhesive having a refractive index of 1.1 to 2.0, and transmissivity of 90% per 1cm.

Abstract translation: 目的：提供使用非晶态氟树脂粘合剂的偏振光分路器及其制造方法，通过该偏光分光器，使用193nm透明的粘合剂形成在不同位置放置图像区域和对象区域的偏振光分路器， 具有长时间照射在粘合剂上的光的耐久性。 构成：由透明材料形成的多层电介质薄膜（16,17）涂覆在一对棱镜（4,8）之一的倾斜面上。 薄膜包括具有高折射率的材料和具有低折射率的材料。 使用非晶态氟树脂粘合剂（21）将多层电介质薄膜和另一棱镜的倾斜面彼此附接，以制造偏振分光器。 折射率为1.1〜2.0，透光率为1％的透光率为90％。

公开(公告)号：KR1020000001435A

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019980021700

申请日：1998-06-11

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  조경익 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A refraction optical system is capable of easily producing a needed wavelength by use of a polarization effect removing panel without affecting a pattern formation instead of 1/4 wavelength panel or 1/2 wavelength panel. CONSTITUTION: The refraction optical system comprises: a reticle(1) having a pattern to be illuminated; a first lens(2) for correcting a difference between rays of light through the reticle; a first rectangular prism(5) for receiving the corrected ray of light by the first lens; a dielectric multi thin film layer(6) for refracting a S-waveform and passing a P-waveform, wherein the dielectric multi thin film layer is comprised of a high refraction material and a low refraction material deposited in turn; a 1/4 wavelength panel(4) for receiving the S-waveform refracted by the dielectric multi thin film layer, producing a phase difference between a normal ray of light and an abnormal ray of light, and changing the S-waveform to a circular polarized light, wherein the 1/4 wavelength panel produces a phase difference between a normal ray of light of the polarized light and an abnormal ray of light thereof, and then changes the polarized light to the P-waveform; a reflector(3) for refracting the polarized light through the 1/4 wavelength panel to re-receiving the light thus refracted to the 1/4 wavelength panel; a second rectangular prism(7) for receiving the P-waveform to the first rectangular prism and the dielectric multi thin film layer; a second lens(8) for receiving the P-waveform through the second rectangular prism; and a polarization effect removing panel(9) for making the polarization of light through the second lens irregular, and for illuminating the light to the wafer.

Abstract translation: 目的：折射光学系统能够通过使用偏振效果去除面板而容易地产生所需的波长，而不影响图案形成而不是1/4波长面板或1/2波长面板。 构成：折射光学系统包括：具有待照明图案的掩模版（1）; 用于校正通过所述掩模版的光线之间的差异的第一透镜（2） 第一矩形棱镜（5），用于通过第一透镜接收经校正的光线; 用于折射S波形并通过P波形的电介质多层薄膜层（6），其中介电多层薄膜层依次沉积高折射材料和低折射材料; 用于接收由电介质多层薄膜层折射的S波形的1/4波长面板（4），产生正常光线和异常光线之间的相位差，并将S波形改变为圆形 偏振光，其中1/4波长面板产生偏振光的正常光线和其异常光线之间的相位差，然后将偏振光改变为P波形; 反射器（3），用于折射通过1/4波长面板的偏振光，以重新接收由此折射到1/4波长面板的光; 用于将P波形接收到第一矩形棱镜和电介质多薄膜层的第二矩形棱镜（7）; 用于通过第二矩形棱镜接收P波形的第二透镜（8）; 以及用于使通过第二透镜的光的偏振不均匀并用于将光照射到晶片的偏振效应去除面板（9）。

公开(公告)号：KR100170476B1

公开(公告)日：1999-05-01

申请号：KR1019950052657

申请日：1995-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/00

Abstract: 본 발명은 모아레 무늬를 이용한 광학계 성능 측정장치 및 측정방법에 관한 것이다.
본 발명의 광학계 성능 측정장치는 기준격자(1)와, 시편격자(2)와, 조명광원(3)과, 광검출기(5)와, 로타리 스테이지(6)를 포함한다.
아울러, 본 발명의 광학계 성능 측정방법은, 광학계의 상 위치에 기준격자(1)을 광축에 수직되게 위치시키는 단계; 시편격자(2)를 광학계(4)의 물체위치에 위치시키는 단계; 조명광원(3)을 비추어 시편격자(2)가 광학계(4)에 의해 상 위치에 결상되게 하여 결상된 시편격자(2)의 상과 기준격자(1)에 의해 모아레무늬를 생성하는 단계; 상기한 모아레무늬의 강도분포를 광검출기(5)를 이용하여 측정하는 단계; 기준격자(1)가 놓인 로타리 스테이지(6)를 이동하면서 각 지점에서의 모아레무늬의 밝은 부분 강도와 어두운 부분의 강도를 측정하여 모아레무늬에 대한 강도분포의 차이가 최대인 지점을 찾는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1019990025513A

公开(公告)日：1999-04-06

申请号：KR1019970047178

申请日：1997-09-12

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  최상수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  유형준

IPC: G02B27/00

Abstract: 본 발명은 광학계의 광축 틀어짐 검지 장치에 관한 것으로, 조립된 광학계 및 광학계를 구성하는 각 광학부품의 광축이 전체 광학계의 기준 광축에 대해 어느 정도 틀어져 있는지 그 틀어진 정도를 간편하고 정확하게 측정하는 장치에 관한 것이다.
종래의 광학계 광축 틀어짐 검지 방법으로는 광학계를 구성하는 부품의 수가 많을 경우 각 광학부품들이 얼마만한 광축 틀어짐을 발생시키는지 구분하기 어렵고 단지 오차가 있다는 것만을 알 수 있을 뿐아니라 상당량의 누적오차가 발생하는 단점이 있다.
따라서 본 발명에서는 입사된 광선과 같은 경로로 반사시킬 수 있는 코너 큐브 프리즘을 사용하여 돌아오는 광선의 위치 이동량을 정밀히 측정할 수 있는 광학계 광축 틀어짐 검지 장치를 제시한다.

公开(公告)号：KR1019980050456A

公开(公告)日：1998-09-15

申请号：KR1019960069279

申请日：1996-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/66

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
반도체 레이저 간섭계를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치 및 측정방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
간섭계 전체의 크기에 대해서 소형화 및 구조의 단순화가 가능하며, 웨이퍼의 표면의 넓은 측정 영역에 걸쳐 높은 정밀도로 초점을 측정 및 웨이퍼의 수직 방향의 미소 이동 거리를 측정할 수 있는 반도체 레이저 간섭계를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치를 제공하고자 함.
3. 발명이 해결 방법의 요지
레이저 광을 발생하는 반도체 레이저(101); 상기 반도체 레이저에서 방출된 광을 단면이 원형인 평면파로 변환시키는 광 정형수단(103);상기 광 정형수단을 통과한 광이 상기 레이저로의 귀환을 차단하는 광분리수단(104); 상기 광분리수단으로부터 입사된 광의 편광 직교 성분에 따라 반사 또는 투과시키는 편광 빔스플릿터(105); 상기 편광 빔스플릿터를 투과한 광을 소정 주파수만큼 변조하는 음향광학변조수단(107); 상기 음향광학변조수단를 소정 주파수로 구동하는 신호발생수단(109); 상기 편광 빔스플릿터를 통과하여 상기 음향광학변조수단에서 변조된 광 및 상기 편광 빔스플릿터에서 반사된 광을 검출하는 광검출수단(110); 및 상기 광검출수단(110)의 신호와 상기 신호발생수단(109)의 신호가 입력되어 비교되는 위상비교수단(113)을 포함하여 이루어진 반도체 레이저를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치를 제공하며, 상기 장치를 이용한 측정방법에 있어서,반도체 레이저로부터 방출된 레이저 광을 원형 단면의 평면파로 바꾸는 광정형 단계;상기 평면파 레이저 광을 기준 거울로 반사시키고, 상기 음향광학소자로 투과시키는 빔스플릿터 단계; 상기 투과된 레이저 광을 상기 음향광학소자를 통해 소정 주파수로 변조하는 제1변조단계; 일차 변조된 레이저 광을 웨이퍼에 조사하는 단계; 웨이퍼에 조사된 후, 반사되어 되돌아온 레이저 광을 상기 음향광학소자를 통해 다시 변조하는 제2변조단계; 상기 기준 거울에 반사되어 돌아온 기준 신호광과 상기 제2변조단계를 통해 돌아온 신호광을 검출하는 광검출 단계; 및 상기 광검출 단계에서 검출된 신호와 음향광학소자를 구동하는 신호 발생기의 신호의 위상을 상호 비교하는 단계를 포함하여 이루어진 초점 측정방법을 제공함.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 노광장비에 적용되어, 웨이퍼 초점 신호의 측정 정밀도를 향상시키고 넓은 측정 범위에서도 동작이 가능하며, 간단한 구조를 가지며, 소형화된 자동 초점장치를 간단하게 구성할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019960026089A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019940035478

申请日：1994-12-21

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 오용호 ,  박병선 ,  이각현 ,  유형준

IPC: H01L21/027

公开(公告)号：KR100276081B1

公开(公告)日：2001-02-01

申请号：KR1019970054786

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  유형준 ,  이각현 ,  김도훈

IPC: G02B1/10 ,  G02B5/04 ,  G02B27/28

Abstract: PURPOSE: A polarizing beam splitter for two wavelengths and a method for fabricating the same are provided to reflect a S-wave and transmit a P-wave by depositing alternately a material having a high refractive index and a material having a low refractive index on an inclined plane of a prism. CONSTITUTION: A reticle(1) is used for receiving an ArF excimer laser with a wavelength of 193nm. A couple of rectangular prism(4,8) is used for transmitting the ArF excimer laser through the reticle(1). A multi-coating layer(5) is formed on each inclined plane of the rectangular prisms(4,8). A plurality of 1/4 wavelength plate(6,9) is used for changing a wavelength of the laser beam reflected by the multi-coating layer(5). A reflective mirror(7) is used for reflecting the laser beam transmitting the 1/4 wavelength plate(6). The laser beam reflected by the reflective mirror(7) is focused on a wafer(10).

Abstract translation: 目的：提供一种用于两个波长的偏振分束器及其制造方法，用于反射S波并通过将具有高折射率的材料和具有低折射率的材料交替沉积在 棱镜的倾斜平面。 构成：将掩模版（1）用于接收波长为193nm的ArF准分子激光器。 一对矩形棱镜（4,8）用于通过光罩（1）传送ArF准分子激光器。 在矩形棱镜（4,8）的每个倾斜平面上形成多层涂层（5）。 多个1/4波长板（6,9）用于改变由多层涂层（5）反射的激光束的波长。 反射镜（7）用于反射透射1/4波长板（6）的激光束。 由反射镜（7）反射的激光束聚焦在晶片（10）上。

公开(公告)号：KR100269244B1

公开(公告)日：2000-12-01

申请号：KR1019980019516

申请日：1998-05-28

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  최상수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G02B27/0075 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/70216

Abstract: PURPOSE: A method for extending depth of focus of an optical system for lithographic equipment using transmission-type optical parts made of a double refraction material is provided to extend a range of an image in a direction of an optical axis, by making the image located in different positions have a predetermined interval in an optical axial direction depending on a polarization component of illumination light. CONSTITUTION: An optical system uses transmission-type double refraction optical parts(210) made of a double refraction material or a double refraction optical unit composed of the optical parts. An image by the double refraction optical unit(200) is focused in different positions and in a direction of an optical axis of the optical system to extend depth of focus, depending on a polarization component of illumination light(20).

Abstract translation: 目的：提供使用由双折射材料制成的透射型光学部件的用于光刻设备的光学系统的焦点深度的方法，以通过使图像位于图像的方向上延伸图像的范围 在不同的位置上，根据照明光的偏振分量，在光轴方向上具有规定的间隔。 构成：光学系统使用由双折射材料制成的透射型双折射光学部件（210）或由光学部件组成的双折射光学单元。 通过双折射光学单元（200）的图像被聚焦在光学系统的光轴的不同位置和方向上，以根据照明光（20）的偏振分量来延长焦深。